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1. WO2020202360 - 蒸着マスク

公開番号 WO/2020/202360
公開日 08.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/014270
国際出願日 29.03.2019
IPC
C23C 14/04 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
04選択された表面部分の被覆,例.マスクを用いるもの
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
H01L 51/50 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
51能動部分として有機材料を用い,または能動部分として有機材料と他の材料との組み合わせを用いる固体装置;このような装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
50光放出に特に適用されるもの,例.有機発光ダイオード(OLED)または高分子発光ダイオード(PLED)
H05B 33/10 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
33エレクトロルミネッセンス光源
10エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法
出願人
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
発明者
  • 井上 智 INOUE, Satoshi
代理人
  • 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) VAPOR DEPOSITION MASK
(FR) MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR
(JA) 蒸着マスク
要約
(EN)
A vapor deposition mask provided with a mask frame (42) and multiple vapor deposition sheets (44) fixed to the mask frame (42) and provided with vapor deposition holes (48) through which to discharge vapor deposition particles (DV) to a deposition surface (32) of a substrate (30), wherein the multiple vapor deposition sheets (44) are arranged side by side in the transverse direction (T) of the vapor deposition sheets (44), a first vapor deposition sheet (44 (1)) and a second vapor deposition sheet (44 (2)), which are adjacent vapor deposition sheets (44) are formed such that a first overlap part (52 (1)) projecting from the main body (45) of the first vapor deposition sheet (44 (1)) toward the second vapor deposition sheet (44 (2)) is provided at an end part(50) of the first vapor deposition sheet (44 (1)) in the transverse direction (T) and a second overlap part (52 (2)) projecting from the main body (45) of the second vapor deposition sheet (44 (2)) toward the first vapor deposition sheet (44 (1)) is provided at an end part (50) of the second vapor deposition sheet (44 (2)) in the transverse direction (T), the first overlap part (52 (1)) and the second overlap part (52 (2)) project from the main bodies (45) such that when the first overlap part (52 (1)) and the second overlap part (52 (2)) are overlapped with each other, one of the overlap parts is positioned over the other with the other being positioned thereunder, or one of the overlap parts is positioned under the other with the other being positioned thereon, and the first overlap part (52 (1)) and the second overlap part (52 (2)) are overlapped with each other with a space S2 therebetween in the top-to-bottom direction.
(FR)
L'invention concerne un masque de dépôt en phase vapeur qui est pourvu d'un cadre de masque (42) et de multiples feuilles de dépôt en phase vapeur (44) fixées au cadre de masque (42) et munies de trous de dépôt en phase vapeur (48) à travers lesquels éjecter des particules de dépôt en phase vapeur (DV) sur une surface de dépôt (32) d'un substrat (30), les multiples feuilles de dépôt en phase vapeur (44) étant disposées côte à côte dans la direction transversale (T) des feuilles de dépôt en phase vapeur (44), une première feuille de dépôt en phase vapeur (44 (1)) et une seconde feuille de dépôt en phase vapeur (44 (2)), qui sont des feuilles de dépôt en phase vapeur (44) adjacentes, sont formées de telle sorte qu'une première partie de chevauchement (52 (1)) se projetant du corps principal (45) de la première feuille de dépôt en phase vapeur (44 (1)) vers la seconde feuille de dépôt en phase vapeur (44 (2)) est située au niveau d'une partie d'extrémité (50) de la première feuille de dépôt en phase vapeur (44 (1)) dans la direction transversale (T) et qu'une seconde partie de chevauchement (52 (2)) se projetant du corps principal (45) de la seconde feuille de dépôt en phase vapeur (44 (2)) vers la première feuille de dépôt en phase vapeur (44 (1)) est située au niveau d'une partie d'extrémité (50) de la seconde feuille de dépôt en phase vapeur (44 (2)) dans la direction transversale (T), la première partie de chevauchement (52 (1)) et la seconde partie de chevauchement (52 (2)) se projettent depuis ls corps principaux (45) de telle sorte que, lorsque la première partie de chevauchement (52 (1)) et la seconde partie de chevauchement (52 (2)) se chevauchent l'une l'autre, l'une des parties de chevauchement est positionnée au-dessus de l'autre, l'autre étant positionnée en dessous, ou l'une des parties de chevauchement est positionnée sous l'autre, l'autre étant positionnée au dessus, et la première partie de chevauchement (52 (1)) et la seconde partie de chevauchement (52 (2)) se chevauchent l'une l'autre avec un espace S2 entre elles dans la direction haut-bas.
(JA)
マスクフレーム(42)と、マスクフレーム(42)に固定されるとともに、基板(30)の被蒸着面(32)に対して蒸着粒子(DV)を吐出する蒸着孔(48)を備えた複数の蒸着シート(44)と、を備え、複数の蒸着シート(44)は、蒸着シート(44)の短手方向(T)に並べて配列され、隣接する蒸着シート(44)である、第1蒸着シート(44(1))及び第2蒸着シート(44(2))において、第1蒸着シート(44(1))の短手方向(T)の端部(50)には、第1蒸着シート(44(1))の本体(45)から第2蒸着シート(44(2))の方向に突出する第1重畳部(52(1))が設けられ、第2蒸着シート(44(2))の短手方向(T)の端部(50)には、第2蒸着シート(44(2))の本体(45)から第1蒸着シート(44(1))の方向に突出する第2重畳部(52(2))が設けられ、第1重畳部52(1)と第2重畳部52(2)とは、第1重畳部52(1)と第2重畳部52(2)とが重畳された際に、一方が上側に他方が下側に、又は、一方が下側に他方が上側に位置するように、本体(45)から突出し、第1重畳部52(1)と第2重畳部52(2)とは、上下方向において、隙間S2を介在させて互いに重畳する、蒸着マスク。
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