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1. WO2020196345 - 感光性転写フィルム、帯電防止パターンの製造方法、感光性転写フィルムの製造方法、積層体、タッチパネル、タッチパネルの製造方法、及びタッチパネル付き表示装置

公開番号 WO/2020/196345
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/012526
国際出願日 19.03.2020
IPC
B32B 27/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
B32B 27/18 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
18特別な添加剤の使用を特徴とするもの
B32B 27/30 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
30ビニル樹脂からなるもの;アクリル樹脂からなるもの
C08F 290/12 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
08不飽和側基の導入により変性された重合体への
12サブクラスC08CまたはC08Fに分類される重合体
C08F 2/44 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2重合方法
44配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 霜山 達也 SHIMOYAMA, Tatsuya
  • 植木 啓吾 UEKI, Keigo
代理人
  • 特許業務法人太陽国際特許事務所 TAIYO, NAKAJIMA & KATO
優先権情報
2019-06459528.03.2019JP
2019-09111414.05.2019JP
2019-17554726.09.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE TRANSFER FILM, METHOD FOR PRODUCING ANTISTATIC PATTERN, METHOD FOR PRODUCING PHOTOSENSITIVE TRANSFER FILM, LAMINATE, TOUCH PANEL, METHOD FOR PRODUCING TOUCH PANEL, AND DISPLAY DEVICE WITH TOUCH PANEL
(FR) FILM DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE MOTIF ANTISTATIQUE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DE TRANSFERT PHOTOSENSIBLE, STRATIFIÉ, PANNEAU TACTILE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE PANNEAU TACTILE, ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE AVEC PANNEAU TACTILE
(JA) 感光性転写フィルム、帯電防止パターンの製造方法、感光性転写フィルムの製造方法、積層体、タッチパネル、タッチパネルの製造方法、及びタッチパネル付き表示装置
要約
(EN)
Provided are a photosensitive transfer film and applications of the photosensitive transfer film, the photo sensitive transfer film having a photosensitive layer with a thickness of 10 μm or less and an antistatic layer in this order, the photosensitive layer including an alkali-soluble acrylic resin, a radically polymerizable compound having an ethylenically unsaturated group, and a photopolymerization initiator.
(FR)
L'invention concerne un film de transfert photosensible et des applications du film de transfert photosensible, le film de transfert photosensible ayant une couche photosensible ayant une épaisseur inférieure ou égale à 10 µm et une couche antistatique dans cet ordre, la couche photosensible comprenant une résine acrylique soluble dans les alcalis, un composé polymérisable par voie radicalaire ayant un groupe à insaturation éthylénique, et un initiateur de photopolymérisation.
(JA)
厚さが10μm以下の感光性層と、帯電防止層と、をこの順で有し、上記感光性層が、アルカリ可溶性アクリル樹脂と、エチレン性不飽和基を有するラジカル重合性化合物と、光重合開始剤と、を含有する感光性転写フィルム、及びその応用を提供する。
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