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1. WO2020196307 - マグネトロンプラズマ成膜装置

公開番号 WO/2020/196307
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/012408
国際出願日 19.03.2020
IPC
C23C 14/35 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
34スパッタリング
35磁界の適用によるもの,例.マグネトロンスパッタリング
出願人
  • 日東電工株式会社 NITTO DENKO CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 森地 健太 MORICHI, Kenta
  • 塘口 直樹 TOMOGUCHI, Naoki
  • 谷口 剛志 TANIGUCHI, Tsuyoshi
代理人
  • 岡本 寛之 OKAMOTO, Hiroyuki
  • 宇田 新一 UDA, Shinichi
優先権情報
2019-05767726.03.2019JP
2020-04100510.03.2020JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MAGNETRON PLASMA DEPOSITION APPARATUS
(FR) APPAREIL DE DÉPÔT PAR PLASMA À MAGNÉTRON
(JA) マグネトロンプラズマ成膜装置
要約
(EN)
A magnetron sputtering deposition apparatus 1 is provided with a deposition roller 14 and a magnetron plasma unit 15 that is disposed so as to face the deposition roller 14. The magnetron plasma unit 15 is provided with: a rotary target 16 having an axial line that extends in the same direction as the axial line of the deposition roller 14; and a magnet unit 200 which is disposed radially inward of the rotary target 16. Angle θ as determined below is not more than 30 degrees. On an outer circumferential surface of the rotary target 16, a tangential-direction component of the magnetic flux density of the rotary target 16 is measured in one circumferential direction of the rotary target 16. The angle θ is formed by a line segment LS1 connecting the center of the rotary target 16 and a point MAX_P corresponding to a maximum tangential-direction component of the magnetic flux density and a line segment LS2 connecting said center and a point MIN_P corresponding to a minimum tangential-direction component of the magnetic flux density.
(FR)
L'invention concerne un appareil de dépôt par pulvérisation à magnétron (1) comprenant un rouleau de dépôt (14) et une unité de plasma à magnétron (15) qui est disposée de façon à faire face au rouleau de dépôt (14). L'unité de plasma à magnétron (15) est pourvue : d'une cible rotative (16) ayant une ligne axiale qui s'étend dans la même direction que la ligne axiale du rouleau de dépôt (14) ; et d'une unité d'aimant (200) qui est disposée radialement vers l'intérieur de la cible rotative (16). L'angle θ tel que déterminé ci-dessous n'est pas supérieur à 30 degrés. Sur une surface circonférentielle externe de la cible rotative (16), une composante de direction tangentielle de la densité de flux magnétique de la cible rotative (16) est mesurée dans une direction circonférentielle de la cible rotative (16). L'angle θ est formé par un segment de ligne LS1 qui relie le centre de la cible rotative (16) et un point MAX_P correspondant à une composante de direction tangentielle maximale de la densité de flux magnétique et un segment de ligne LS2 qui relie ledit centre et un point MIN_P correspondant à une composante de direction tangentielle minimale de la densité de flux magnétique.
(JA)
【解決手段】マグネトロンスパッタリング成膜装置1は、成膜ロール14と、成膜ロール14と対向配置されるマグネトロンプラズマユニット15とを備える。マグネトロンプラズマユニット15は、成膜ロール14の軸線と同一方向に軸線が延びるロータリーターゲット16と、ロータリーターゲット16の径方向内側に配置されるマグネットユニット200とを備える。下記で求められる角度θが30度以下である。ロータリーターゲット16の外周面上において、ロータリーターゲット16の円周方向の一方向に向かって、ロータリーターゲット16の磁束密度の接線方向成分を測定する。磁束密度の最大の接線方向成分に相当する点MAX_Pおよびロータリーターゲット16の中心を結ぶ線分LS1と、磁束密度の最小の接線方向成分に相当する点MIN_Pおよび中心を結ぶ線分LS2とが成す角度θを、求める。
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