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1. WO2020195994 - パターン形成用組成物、キット、パターンの製造方法、パターン、および、半導体素子の製造方法

公開番号 WO/2020/195994
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/011328
国際出願日 16.03.2020
IPC
C08F 20/10 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
20ただ1つの炭素-炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,そのうちただ1つの脂肪族基がただ1つのカルボキシル基によって停止されている化合物,その塩,無水物,エステル,アミド,イミドまたはそのニトリルの単独重合体または共重合体
029個以下の炭素原子をもつモノカルボン酸;その誘導体
10エステル
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
B29C 59/02 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
59表面成形,例.エンボス;そのための装置
02機械的手段,例.プレス,によるもの
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 後藤 雄一郎 GOTO Yuichiro
  • 下重 直也 SHIMOJU Naoya
代理人
  • 特許業務法人特許事務所サイクス SIKs & Co.
優先権情報
2019-05455722.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PATTERN FORMING COMPOSITION, KIT, PATTERN MANUFACTURING METHOD, PATTERN, AND SEMICONDUCTOR ELEMENT MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSITION DE FORMATION DE MOTIF, KIT, PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MOTIF, MOTIF ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ÉLÉMENT SEMI-CONDUCTEUR
(JA) パターン形成用組成物、キット、パターンの製造方法、パターン、および、半導体素子の製造方法
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a pattern forming composition that has a suppressed effect on metals and that has excellent temporal stability with respect to imprints on which molds are repeatedly used. This pattern forming composition contains a polymerizable compound, a photoinitiator, and an organic halogen compound including at least one atom selected from the group consisting of chlorine, bromine, and iodine atoms. The organic halogen compound is a compound stable against light from a mercury lamp. The contained amount of the organic halogen compound with respect to the total solid content in the pattern forming composition is 0.001-1.0 mass%.
(FR)
La présente invention concerne une composition de formation de motif qui a un effet supprimé sur les métaux et qui a une excellente stabilité temporelle par rapport à des empreintes sur lesquelles des moules sont utilisés de façon répétée. Cette composition de formation de motif contient un composé polymérisable, un photo-initiateur et un composé halogéné organique comprenant au moins un atome choisi dans le groupe constitué par les atomes de chlore, de brome et d'iode. Le composé halogéné organique est un composé stable vis-à-vis de la lumière d'une lampe à mercure. La quantité contenue du composé organique halogéné par rapport à la teneur totale en solides dans la composition de formation de motif est de 0,001 à 1,0 % en masse.
(JA)
モールドを繰り返し使用するインプリントに対しても経時安定性に優れ、かつ金属への影響も抑制されたパターン形成用組成物の提供を目的とする。 パターン形成用組成物は、重合性化合物と、光重合開始剤と、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子からなる群より選択される少なくとも1つの原子を含む有機ハロゲン化合物とを含有し、有機ハロゲン化合物が、水銀ランプの光に対し安定な化合物であり、有機ハロゲン化合物の含有量が、パターン形成用組成物中の全固形分に対し0.001~1.0質量%である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報