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1. WO2020195670 - グラフェンの異常成長を検出する方法および測定装置、ならびに成膜システム

公開番号 WO/2020/195670
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/009360
国際出願日 05.03.2020
IPC
G01J 4/04 2006.01
G物理学
01測定;試験
J赤外線,可視光線または紫外線の強度,速度,スペクトル,偏光,位相またはパルスの測定;色の測定;放射温度測定
4偏光の測定
04電気的検出手段を利用する偏光計
G01N 21/21 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
17調査される材料の特性に応じて入射光が変調されるシステム
21偏光に影響をおよぼす特性
C01B 32/186 2017.01
C化学;冶金
01無機化学
B非金属元素;その化合物
32炭素;その化合物
15ナノサイズの炭素物質
182グラフェン
184製造
186化学蒸着によるもの
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 井福 亮太 IFUKU Ryota
  • 松本 貴士 MATSUMOTO Takashi
  • 藤尾 朗 FUJIO Akira
  • 河野 伸 KONO Shin
代理人
  • 高山 宏志 TAKAYAMA Hiroshi
優先権情報
2019-05593225.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR DETECTING ABNORMAL GROWTH OF GRAPHENE, MEASUREMENT METHOD, AND FILM FORMATION SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ DE DÉTECTION DE CROISSANCE ANORMALE DE GRAPHÈNE, PROCÉDÉ DE MESURE ET SYSTÈME DE FORMATION DE FILM
(JA) グラフェンの異常成長を検出する方法および測定装置、ならびに成膜システム
要約
(EN)
This method for detecting abnormal growth of graphene includes: measuring, through spectral ellipsometry, the reflectance spectrum of a measurement subject in which a graphene film formed by CVD is provided on a substrate; creating a film structure model to calculate polarization parameters, and incorporating the calculated polarization parameters into the measurement value through fitting; and detecting abnormal growth of graphene on the basis of the value of the degree of conformance when the polarization parameters are fitted.
(FR)
L'invention concerne un procédé de détection de croissance anormale de graphène comprenant : la mesure, par ellipsométrie spectrale, du spectre de réflectance d'un sujet de mesure dans lequel un film de graphène formé par CVD est disposé sur un substrat ; la création d'un modèle de structure de film afin de calculer des paramètres de polarisation, et l'incorporation des paramètres de polarisation calculés dans la valeur de mesure par l’intermédiaire d'un ajustement ; et la détection d'une croissance anormale de graphène en fonction de la valeur du degré de conformité lorsque les paramètres de polarisation sont ajustés.
(JA)
グラフェンの異常成長を検出する方法は、分光エリプソメトリーにより、基板上にCVDにより形成されたグラフェン膜を有する測定対象の反射スペクトルを測定することと、膜構造モデルを作成して、偏光パラメータを計算し、フィッティングにより偏光パラメータの計算値を測定値に合わせ込むことと、偏光パラメータをフィッティングした際の適合度の値に基づいてグラフェンの異常成長を検出することとを有する。
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