処理中

しばらくお待ちください...

PATENTSCOPE は、メンテナンスのため次の日時に数時間サービスを休止します。サービス休止: 土曜日 31.10.2020 (7:00 午前 CET)
設定

設定

出願の表示

1. WO2020195566 - V合金ターゲット

公開番号 WO/2020/195566
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/008603
国際出願日 02.03.2020
IPC
C23C 14/24 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
24真空蒸着
B22F 1/00 2006.01
B処理操作;運輸
22鋳造;粉末冶金
F金属質粉の加工;金属質粉からの物品の製造;金属質粉の製造;金属質粉に特に適する装置または機械
1金属質粉の特殊処理,例.加工を促進するためのもの,特性を改善するためのもの;金属粉それ自体,例.異なる組成の小片の混合
C22C 1/04 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
1非鉄合金の製造
04粉末冶金によるもの
C22C 27/02 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
27レニウムまたはグループC22C14/00もしくはC22C16/00において述べられていない耐火金属を基とする合金
02バナジウム,ニオブまたはタンタルを基とする合金
C22C 27/04 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
27レニウムまたはグループC22C14/00もしくはC22C16/00において述べられていない耐火金属を基とする合金
04タングステンまたはモリブデンを基とする合金
出願人
  • 日立金属株式会社 HITACHI METALS,LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 十亀 宏明 SOGAME Hiroaki
  • 福岡 淳 FUKUOKA Jun
優先権情報
2019-05753226.03.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) V ALLOY TARGET
(FR) CIBLE EN ALLIAGE DE V
(JA) V合金ターゲット
要約
(EN)
Provided is a novel V alloy target, wherein the occurrence of irregularities on the surface of the target can be suppressed during the machining of the target, and the deposition of droplets on workpieces can be suppressed while the occurrence of abnormal discharge is suppressed during film formation. The V alloy target is composed of V and W, wherein the average value of Vickers hardness on an erosion surface is in the range of 340-750 HV, and the variation in Vickers hardness measured at 5 measurement points is 20% or less. Preferably, the V alloy target has a Vickers hardness in the range of 350-710 HV, and more preferably contains 10-50 at% of W with the remainder comprising V and inevitable impurities.
(FR)
L'invention concerne une nouvelle cible en alliage de V, l'apparition d'irrégularités sur la surface de la cible pouvant être supprimée pendant l'usinage de la cible, et le dépôt de gouttelettes sur des pièces à usiner peut être supprimé tandis que l'apparition d'une décharge anormale est supprimée pendant la formation de film. La cible en alliage de V est composée de V et de W, la valeur moyenne de la dureté Vickers sur une surface d'érosion étant dans la plage de 340 à 750 HV, et la variation de la dureté Vickers mesurée à 5 points de mesure étant de 20 % ou moins. De préférence, la cible en alliage de V a une dureté Vickers dans la plage de 350-710 HV, et elle contient de manière davantage préférée de 10 à 50 % atomique de W, le reste comprenant du V et des impuretés inévitables.
(JA)
ターゲットの機械加工において、ターゲット表面における凹凸の発生が抑制でき、成膜時の異常放電の発生を抑制するとともに、被処理材へのドロップレットの付着抑制も同時に達成できる、新規なV合金ターゲットを提供する。 VおよびWで構成され、エロージョン面におけるビッカース硬さの平均値が340~750HVの範囲であり、5点の測定点で測定を行なったビッカース硬さのばらつきが20%以下であるV合金ターゲットであり、ビッカース硬さは350~710HVの範囲にあることが好ましく、Wを10~50原子%含有し、残部がVおよび不可避的不純物からなることがより好ましい。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報