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1. WO2020194418 - レジスト剥離液

公開番号 WO/2020/194418
公開日 01.10.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/012327
国際出願日 25.03.2019
IPC
G03F 7/42 2006.1
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
42剥離又はそのための処理剤
CPC
G03F 7/42
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
42Stripping or agents therefor
H01L 21/027
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
027Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
出願人
  • パナソニックIPマネジメント株式会社 PANASONIC INTELLECTUAL PROPERTY MANAGEMENT CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 淵上 真一郎 FUCHIGAMI Shinichirou
  • 鬼頭 佑典 KITO Yusuke
  • 小池 至人 KOIKE Keito
代理人
  • 廣幸 正樹 HIROKOH Masaki
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (ja)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RESIST REMOVAL LIQUID
(FR) SOLUTION DE PELAGE POUR RÉSERVE
(JA) レジスト剥離液
要約
(EN) The size of television screens is increasing as a result of the implementation of high-definition broadcasting formats such as 4K and 8K. Consequently, the baking temperatures of photoresists are being raised in order to prevent failures during element formation, and photoresists are becoming difficult to remove. In addition, a large amount of resist removal liquid is used, so there is a need for a resist removal liquid having a high recoverability rate in order to reduce costs. Provided is a resist removal liquid that makes it possible to remove a hard-baked resist and that can be recovered by distillation. The resist removal liquid is characterized by including: a secondary cyclic amine compound; at least one linear amide selected from among N-methylformamide, N,N-dimethylformamide, N,N-diethylformamide, N-N dimethylacetamide, and N,N-diethylacetamide; a polar solvent comprising 2-pyrrolidone and water; and 0.0001-0.01 mass% of a metal surface protective agent. The resist removal liquid is also characterized by having a higher content of the linear amide than of 2-pyrrolidone.
(FR) Selon l'invention, un format de radiodiffusion haute définition tel que 4K et 8K, est exécuté, et un écran de télévision est ainsi agrandi. Ainsi, afin d'éviter les échecs lors de la formation d'éléments, la température de cuisson d'une résine photosensible est accrue, et cette résine photosensible est peu susceptible d'être pelée. En outre, une solution de pelage pour réserve est mise en œuvre en grande quantité, son coût est ainsi baissé, ce qui permet d'obtenir une solution de pelage pour réserve présentant un taux de reproduction élevé. Plus précisément, l'invention fournit une solution de pelage pour réserve qui contient un composé amine cyclique secondaire, au moins un amide choisi parmi un N-méthylformamide, un N,N-diméthylformamide, un N,N-diéthylformamide, un N,N-diméthylacétamide et un N,N-diéthylacétamide, en tant qu'amide à chaîne droite, un solvant polaire constitué d'une 2-pyrrolidone et d'une eau, et 0,0001 à 0,01% en masse d'un agent protecteur de surface métallique, et qui est caractéristique en ce que la teneur en amide à chaîne droite est supérieure à la teneur en 2-pyrrolidone. La solution de pelage pour réserve de l'invention permet le pelage d'une réserve ayant été soumise à une cuisson dure, et permet une reproduction par distillation.
(JA) 4K、8Kといった高精細度の放送フォーマットが実施されるので、テレビの画面が大きくなる。そのため素子形成時に失敗がないように、フォトレジストの焼成温度が上昇し、フォトレジストは剥離しにくくなる。また、大量のレジスト剥離液を使用するため、そのコスト低下のため、再生率の高いレジスト剥離液が求められている。 2級環状アミン化合物と、直鎖アミドとしてN-メチルホルムアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジエチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N,N-ジエチルアセトアミドから選ばれる少なくとも一種と、2-ピロリドンおよび水からなる極性溶媒と、0.0001~0.01質量%の金属表面保護剤を含み、前記直鎖アミドの含有量は前記2-ピロリドンの含有量より多いことを特徴とするレジスト剥離液は、ハードベイクされたレジストを剥離でき、蒸留再生も可能なレジスト剥離液を提供する。
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