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1. WO2020162604 - 無アルカリガラス

公開番号 WO/2020/162604
公開日 13.08.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/004847
国際出願日 07.02.2020
IPC
C03C 3/091 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3ガラスの組成物
04シリカを含むもの
076重量比で40%から90%シリカを有するもの
089ほう素を含むもの
091アルミニウムを含むもの
C03C 3/097 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3ガラスの組成物
04シリカを含むもの
076重量比で40%から90%シリカを有するもの
097りん,ニオブまたはタンタルを含むもの
C03C 3/112 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
3ガラスの組成物
04シリカを含むもの
076重量比で40%から90%シリカを有するもの
11ハロゲンまたは窒素を含むもの
112ふっ素を含むもの
G11B 5/73 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73ベース層によって特徴づけられるもの
G03F 1/60 2012.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
1フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造に用いる原稿,例.マスク,フォトマスク又はレチクル;そのためのマスクブランク又はペリクル;特にそれに適合した容器;その準備
60基板
H01Q 1/38 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Qアンテナ,すなわち空中線
1アンテナの細部またはアンテナに関連する構成
36輻射器の構成上の形状,例.コーン,ら旋,傘状
38絶縁支持体上に導電層によって形成したもの
CPC
C03C 3/091
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
089containing boron
091containing aluminium
C03C 3/097
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
097containing phosphorus, niobium or tantalum
C03C 3/112
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
11containing halogen or nitrogen
112containing fluorine
G02F 1/1333
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
G03F 1/60
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
60Substrates
G11B 5/73
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62Record carriers characterised by the selection of the material
73Base layers ; , i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
出願人
  • AGC株式会社 AGC INC. [JP]/[JP]
発明者
  • ▲徳▼永 博文 TOKUNAGA Hirofumi
  • 小野 和孝 ONO Kazutaka
代理人
  • 特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.
優先権情報
2019-02025707.02.2019JP
2019-05157019.03.2019JP
2019-14142231.07.2019JP
2019-18680510.10.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ALKALI-FREE GLASS
(FR) VERRE SANS ALCALI
(JA) 無アルカリガラス
要約
(EN)
The present invention relates to alkali-free glass comprising, in mol% in terms of oxides, 63-69% SiO2, 8-13% Al2O3, 0.5-4% B2O3, 8-15% MgO, 4-12% CaO, 0-4.5% SrO, and 0-1% BaO, wherein the ratio [MgO]/[CaO] is 0.67-3.75, formula (A) returns a value of 84 or greater, formula (B) returns a value of 715 or less, formula (C) returns a value of 200 or less, and formula (D) returns a value of 15 or less.
(FR)
La présente invention concerne un verre sans alcali comprenant, en pourcentage en moles en termes d'oxydes, 63 % à 69% de SiO2, 8 % à 13% de Al2O3, 0,5 % à 4% de B2O3, 8 à 15% de MgO, 4 % à 12% de CaO, 0 % à 4,5% de SrO et 0 % à 1% de BaO, le rapport [MgO]/[CaO] étant de 0,67 à 3,75. La formule (A) renvoie une valeur de 84 ou plus, la formule (B) renvoie une valeur de 715 ou moins, la formule (C) renvoie une valeur de 200 ou moins et la formule (D) renvoie une valeur de 15 ou moins.
(JA)
本発明は、酸化物基準のモル%表示でSiO2 63~69%、Al23 8~13%、B23 0.5~4%、MgO 8~15%、CaO 4~12%、SrO 0~4.5%、BaO 0~1%を含み、[MgO]/[CaO]が0.67~3.75であり、式(A)の値が84以上、式(B)の値が715以下、式(C)の値が200以下、式(D)の値が15以下である無アルカリガラスに関する。
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