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1. WO2020162396 - マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法

公開番号 WO/2020/162396
公開日 13.08.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/003936
国際出願日 03.02.2020
IPC
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
H01L 21/673 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
673特に適合するキャリアを使用するもの
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
H01L 21/673
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
673using specially adapted carriers ; or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
出願人
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 小宮山 弘樹 KOMIYAMA Hiroki
  • 八田 澄夫 HATTA Sumio
  • 長野 智和 NAGANO Tomokazu
  • 寺西 瀬名 TERANISHI Sena
  • 浅海 博圭 ASAUMI Hiroyoshi
  • 高橋 大輔 TAKAHASHI Daisuke
  • 大川 智之 OHKAWA Tomoyuki
代理人
  • 西澤 和純 NISHIZAWA Kazuyoshi
  • 大浪 一徳 ONAMI Kazunori
  • 小林 淳一 KOBAYASHI Junichi
優先権情報
2019-02016706.02.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) MASK ADAPTER, MASK ADAPTER ATTACHMENT TOOL, EXPOSURE DEVICE, AND DEVICE PRODUCTION METHOD
(FR) ADAPTATEUR DE MASQUE, OUTIL DE FIXATION D'ADAPTATEUR DE MASQUE, DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF
(JA) マスクアダプタ、マスクアダプタ取付工具、露光装置、およびデバイス製造方法
要約
(EN)
This mask adapter is used in an exposure device that illuminates a mask supported on a stage and exposes a pattern formed in the mask, on to a substrate. The mask adapter is attached to the mask and comprises: a main body having a support section that supports the mask outside a region in which the pattern has been formed and a supported section supported by the stage; and a first section for detection, upon the main body and detectable by a detection unit in the exposure device. The first section for detection includes information pertaining to the mask adapter.
(FR)
La présente invention concerne un adaptateur de masque utilisé dans un dispositif d'exposition qui éclaire un masque supporté sur une platine et qui expose un motif formé dans le masque, sur un substrat. L'adaptateur de masque est fixé au masque et comprend : un corps principal doté d'une section de support qui supporte le masque à l'extérieur d'une région dans laquelle le motif a été formé et d'une section supportée qui est supportée par la platine ; et une première section de détection située sur le corps principal et détectable par une unité de détection se trouvant dans le dispositif d'exposition. La première section de détection comprend des informations relatives à l'adaptateur de masque.
(JA)
本発明のマスクアダプタの一つの態様は、ステージに支持されたマスクを照明し、前記マスクに形成されたパターンを基板上に露光する露光装置で使用され、前記マスクに取り付けられるマスクアダプタであって、前記パターンが形成された領域外で前記マスクを支持する支持部と、前記ステージに支持される被支持部と、を有する本体部と、前記本体部上であって、前記露光装置の検出部によって検出可能な第1被検出部と、を備え、前記第1被検出部は、前記マスクアダプタに関する情報を含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報