処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2020158313 - 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法

公開番号 WO/2020/158313
公開日 06.08.2020
国際出願番号 PCT/JP2020/000235
国際出願日 08.01.2020
IPC
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
CPC
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
出願人
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 後藤 研由 GOTO Akiyoshi
  • 小島 雅史 KOJIMA Masafumi
  • 上村 稔 UEMURA Minoru
  • 山本 慶 YAMAMOTO Kei
  • 白石 康晴 SHIRAISHI Yasuharu
  • 王 惠瑜 OU Keiyu
代理人
  • 中島 順子 NAKASHIMA Junko
  • 米倉 潤造 YONEKURA Junzo
  • 藤森 義真 FUJIMORI Yoshinao
優先権情報
2019-01248328.01.2019JP
2019-15692829.08.2019JP
2019-19112318.10.2019JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ACTINIC LIGHT-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMATION METHOD, AND ELECTRONIC DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE À LA LUMIÈRE ACTINIQUE OU AU RAYONNEMENT, FILM DE RÉSERVE, PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE
(JA) 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法
要約
(EN)
Provided is an actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern in which defects are suppressed. Also provided are: a resist film and a pattern formation method using the actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition; and an electronic device manufacturing method using the pattern formation method. This actinic light-sensitive or radiation-sensitive resin composition contains an acid-degradable resin and a compound that generates an acid in response to irradiation with actinic light rays or radiant rays. The compound that generates an acid in response to irradiation with actinic light rays or radiant rays includes at least one selected from the group consisting of Compound (I) to Compound (III) and at least one selected from the group consisting of compounds represented by General Formula (1) and compounds represented by General Formula (2).
(FR)
L'invention concerne une composition de résine sensible à la lumière actinique ou au rayonnement capable de former un motif dans lequel les défauts sont supprimés. L'invention concerne également : un film de réserve et un procédé de formation de motif utilisant la composition de résine sensible à la lumière actinique ou au rayonnement ; et un procédé de fabrication de dispositif électronique utilisant le procédé de formation de motif. Cette composition de résine sensible à la lumière actinique ou au rayonnement contient une résine dégradable par un acide et un composé qui génère un acide en réponse à une irradiation par des rayons de lumière actinique ou par un rayonnement radiant. Le composé qui génère un acide en réponse à une irradiation par des rayons de lumière actinique ou par un rayonnement radiant comprend au moins un élément choisi parmi le groupe constitué par les composés (I) à (III) et au moins un composé choisi parmi le groupe constitué par les composés représentés par la Formule Générale (1) et par les composés représentés par la Formule Générale (2).
(JA)
欠陥が抑制されたパターンを形成し得る感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。また、上記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法、並びに上記パターン形成方法を用いた電子デバイスの製造方法を提供する。感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物は、酸分解性樹脂と、活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物とを含み、上記活性光線又は放射線の照射によって酸を発生する化合物が、化合物(I)~化合物(III)からなる群より選ばれる1種以上と、一般式(1)で表される化合物及び一般式(2)で表される化合物からなる群より選ばれる1種以上とを含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報