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1. WO2020157860 - 荷電粒子線システム及び荷電粒子線撮像方法

公開番号 WO/2020/157860
公開日 06.08.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/003175
国際出願日 30.01.2019
IPC
H01J 37/22 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
22管と関連した光学または写真装置
CPC
H01J 37/22
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
22Optical or photographic arrangements associated with the tube
出願人
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 岡井 信裕 OKAI Nobuhiro
  • 鈴木 直正 SUZUKI Naomasa
  • 榊原 慎 SAKAKIBARA Makoto
  • 新谷 敦子 SHINTANI Atsuko
代理人
  • 特許業務法人磯野国際特許商標事務所 ISONO INTERNATIONAL PATENT OFFICE, P.C.
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM SYSTEM AND CHARGED PARTICLE BEAM IMAGING METHOD
(FR) SYSTÈME À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES ET PROCÉDÉ D'IMAGERIE PAR FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線システム及び荷電粒子線撮像方法
要約
(EN)
This charged particle beam system is characterized by having: a stage control unit (211) which inclines an inclined SEM stage to a set angle; an addressing processing unit (213) which moves a stage unit to an addressing pattern set in advance for a sample; and an imaging processing unit (214) which, on the basis of the addressing pattern, adjusts movement of the charged particle beam such that the charged particle beam is irradiated onto the imaging location.
(FR)
La présente invention porte sur un système à faisceau de particules chargées qui est caractérisé en ce qu'il comprend : une unité de commande d'étage (211) qui incline un étage MEB incliné à un angle défini ; une unité de traitement d'adressage (213) qui déplace une unité d'étage sur un modèle d'adressage défini à l'avance pour un échantillon ; et une unité de traitement d'imagerie (214) qui ajuste, sur la base du modèle d'adressage, le déplacement du faisceau de particules chargées de façon à être émis sur l'emplacement d'imagerie.
(JA)
傾斜SEMのステージを、設定された角度に傾斜させるステージ制御部(211)と、予め試料に設定されているアドレッシングパターンにステージ部を移動させるアドレッシング処理部(213)と、アドレッシングパターンを基に、撮像箇所に荷電粒子線ビームが照射されるよう、荷電粒子線ビームの移動を調整する撮像処理部(214)ビーム移動調整部と、を有することを特徴とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報