(EN) This charged particle beam system is characterized by having: a stage control unit (211) which inclines an inclined SEM stage to a set angle; an addressing processing unit (213) which moves a stage unit to an addressing pattern set in advance for a sample; and an imaging processing unit (214) which, on the basis of the addressing pattern, adjusts movement of the charged particle beam such that the charged particle beam is irradiated onto the imaging location.
(FR) La présente invention porte sur un système à faisceau de particules chargées qui est caractérisé en ce qu'il comprend : une unité de commande d'étage (211) qui incline un étage MEB incliné à un angle défini ; une unité de traitement d'adressage (213) qui déplace une unité d'étage sur un modèle d'adressage défini à l'avance pour un échantillon ; et une unité de traitement d'imagerie (214) qui ajuste, sur la base du modèle d'adressage, le déplacement du faisceau de particules chargées de façon à être émis sur l'emplacement d'imagerie.
(JA) 傾斜ＳＥＭのステージを、設定された角度に傾斜させるステージ制御部（２１１）と、予め試料に設定されているアドレッシングパターンにステージ部を移動させるアドレッシング処理部（２１３）と、アドレッシングパターンを基に、撮像箇所に荷電粒子線ビームが照射されるよう、荷電粒子線ビームの移動を調整する撮像処理部（２１４）ビーム移動調整部と、を有することを特徴とする。