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1. WO2020130155 - フッ酸耐性レジスト組成物、およびこれを用いて得られた基材加工品

公開番号 WO/2020/130155
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/050256
国際出願日 23.12.2019
IPC
C03C 15/00 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
15繊維やフィラメントの形態をとらないガラスの,エッチングによる表面処理
C08F 2/44 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2重合方法
44配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/027 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
027炭素-炭素二重結合を有する非高分子光重合性化合物,例.エチレン化合物
C08G 75/045 2016.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
75高分子の主鎖に窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにいおうを含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
02ポリチオエーテル
04メルカプト化合物またはその金属誘導体からの
045メルカプト化合物と不飽和化合物からの
出願人
  • 太陽インキ製造株式会社 TAIYO INK MFG. CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 高橋 元範 TAKAHASHI Motonori
  • 西尾 一則 NISHIO Kazunori
代理人
  • 江藤 聡明 ETOH Toshiaki
優先権情報
2018-23915321.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) HYDROFLUORIC ACID-RESISTANT RESIST COMPOSITION, AND PROCESSED SUBSTRATE PRODUCT PRODUCED USING SAME
(FR) COMPOSITION DE RÉSERVE RÉSISTANTE À L'ACIDE FLUORHYDRIQUE, ET PRODUIT DE SUBSTRAT TRAITÉ PRODUIT À L'AIDE DE CETTE DERNIÈRE
(JA) フッ酸耐性レジスト組成物、およびこれを用いて得られた基材加工品
要約
(EN)
[Problem] To provide: a resist composition having excellent close adhesiveness, hydrofluoric acid resistance and detachability; and a processed substrate product produced using the resist composition. [Solution] Produced are: a hydrofluoric acid-resistant resist composition characterized by comprising (A) a carboxyl group-containing resin, (B) a polyfunctional (meth)acrylate monomer, (C) a polyfunctional thiol compound, (D) a photopolymerization initiator and (E) talc in an amount of 20 to 100 parts by mass relative to 100 parts by mass of the carboxyl group-containing resin (A); and a processed substrate product produced by an etching processing using the hydrofluoric acid-resistant resist composition.
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de fournir : une composition de réserve présentant une excellente adhérence étroite, une excellente résistance à l'acide fluorhydrique et une excellente capacité de détachement; et un produit de substrat traité produit à l'aide de la composition de réserve. La solution selon l'invention porte sur : une composition de réserve résistante à l'acide fluorhydrique caractérisée en ce qu'elle comprend (A) une résine contenant un groupe carboxyle, (B) un monomère (méth)acrylate polyfonctionnel, (C) un composé thiol polyfonctionnel, (D) un initiateur de photopolymérisation et (E) du talc en une quantité de 20 à 100 parties en masse par rapport à 100 parties en masse de la résine contenant un groupe carboxyle (A); et un produit de substrat traité produit par un traitement de gravure à l'aide de la composition de réserve résistante à l'acide fluorhydrique.
(JA)
[課題]密着性、フッ酸耐性および剥離性に優れるレジスト組成物、及びこれを用いて基材加工品を提供する。 [解決手段](A)カルボキシル基含有樹脂、(B)多官能(メタ)アクリレートモノマー、(C)多官能チオール化合物、(D)光重合開始剤、および(E)前記(A)カルボキシル基含有樹脂100質量部に対して20~100質量部のタルクを含むことを特徴とする、フッ酸耐性レジスト組成物、およびこれを用いてエッチング加工された基材加工品が得られた。
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