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1. WO2020130005 - リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法

公開番号 WO/2020/130005
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/049504
国際出願日 18.12.2019
IPC
B01D 36/00 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
36ろ過系統またはろ過装置と他の分離装置との組み合せ
G03F 7/11 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
09構造の細部,例.支持体,補助層,に特徴のあるもの
11被覆層又は中間層,例.下塗層をもつもの
G03F 7/16 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
16塗布法;そのための装置
B01D 15/00 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
15固体吸着剤による液体の処理を含む分離方法;その装置
B01J 20/22 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
20固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
22有機物からなるもの
B01J 20/28 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
20固体収着組成物またはろ過助剤組成物;クロマトグラフィー用収着剤;それらの調製,再生または再活性化のためのプロセス
28形態または物理的性質に特徴のあるもの
出願人
  • 日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 大橋 智也 OHASHI Tomoya
  • 吉田 豊之郎 YOSHIDA Toyoshiro
  • 佐々 卓 SASSA Suguru
代理人
  • 特許業務法人 津国 TSUKUNI & ASSOCIATES
  • 山村 大介 YAMAMURA Daisuke
優先権情報
2018-23875120.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) METHOD FOR PRODUCING COATING FILM-FORMING COMPOSITION FOR LITHOGRAPHY
(FR) PROCÉDÉ PERMETTANT DE PRODUIRE UNE COMPOSITION FILMOGÈNE DE REVÊTEMENT POUR LITHOGRAPHIE
(JA) リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法
要約
(EN)
The present invention is a method for producing a coating film-forming composition for lithography, the method including a step for passing a liquid through a filter cartridge. The filter cartridge is obtained by layering a plurality of types of filtration base fabrics or winding same around a hollow inner tube, and the filter cartridge is characterized in that: the filtration base fabrics are non-woven fabrics in which metal-adsorbing groups are chemically bonded to polyolefin fibers; the filtration base fabrics contain a non-woven fabric layer A and a non-woven fabric layer B; the non-woven fabric layer A is configured from polyolefin fibers to which sulfonic acid groups are chemically bonded as metal-adsorbing groups; and the non-woven fabric layer B is configured from polyolefin fibers to which at least one type selected from among amino groups, N-methyl-D−glucamine groups, iminodiacetic acid groups, iminodiethanol groups, amidoxime groups, phosphoric acid groups, carboxylic acid groups and ethylenediamine triacetic acid groups chemically bonded as metal-adsorbing groups. According to this production method, the amount of metal impurities that are the cause of minute defects on a wafer can be reduced.
(FR)
La présente invention concerne un procédé permettant de produire une composition filmogène de revêtement pour lithographie, le procédé comprenant une étape consistant à faire passer un liquide à travers une cartouche de filtre. La cartouche de filtre est obtenue par superposition d'une pluralité de types de tissus de base de filtration ou par enroulement de ceux-ci autour d'un tube interne creux, et la cartouche de filtre est caractérisée en ce que : les tissus de base de filtration sont des tissus non tissés dans lesquels des groupes d'adsorption des métaux sont chimiquement liés à des fibres de polyoléfine ; les tissus de base de filtration contiennent une couche de tissu non tissé A et une couche de tissu non tissé B ; la couche de tissu non tissé A est conçue à partir de fibres de polyoléfine auxquelles des groupes d'acide sulfonique sont chimiquement liés en tant que groupes d'adsorption des métaux ; et la couche de tissu non tissé B est conçue à partir de fibres de polyoléfine auxquelles au moins un type choisi parmi des groupes amino, N-méthyle-D− glucamine, des groupes acide iminodiacétique, des groupes iminodiéthanol, des groupes amidoxime, des groupes acide phosphorique, des groupes acide carboxylique et des groupes acide éthylènediamine triacétique liés chimiquement en tant que groupes d'adsorption des métaux. Selon ce procédé de production, la quantité d'impuretés métalliques qui sont à l'origine de défauts minuscules sur une tranche peut être réduite.
(JA)
フィルターカートリッジに通液する工程を含む、リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法であって、前記フィルターカートリッジが、 複数種類の濾過用基布を積層又は中空状内筒に巻き付けたフィルターカートリッジであって、 前記濾過用基布は、ポリオレフィン繊維に金属吸着基を化学結合した不織布であり、 前記濾過用基布は、不織布層A及び不織布層Bを含み、 前記不織布層Aは、金属吸着基としてスルホン酸基を化学結合したポリオレフィン繊維で構成され、 前記不織布層Bは、金属吸着基としてアミノ基、N-メチル-D‐グルカミン基、イミノジ酢酸基、イミノジエタノール基、アミドキシム基、リン酸基、カルボン酸基及びエチレンジアミン三酢酸基から選択される少なくとも一種を化学結合したポリオレフィン繊維で構成されることを特徴とするフィルターカートリッジである。この製造方法によれば、ウエハー上の微小欠陥の原因となる金属不純物が低減出来る。
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