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1. WO2020129664 - 光導波路とその製造方法

公開番号 WO/2020/129664
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/047564
国際出願日 05.12.2019
IPC
G02B 6/12 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
6ライトガイド;ライトガイドおよびその他の光素子,例.カップリング,からなる装置の構造的細部
10光導波路型のもの
12集積回路型のもの
G02B 6/122 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
6ライトガイド;ライトガイドおよびその他の光素子,例.カップリング,からなる装置の構造的細部
10光導波路型のもの
12集積回路型のもの
122基本的光学要素,例.ライトガイドパス
G02B 6/136 2006.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
6ライトガイド;ライトガイドおよびその他の光素子,例.カップリング,からなる装置の構造的細部
10光導波路型のもの
12集積回路型のもの
13製造方法に特徴のある集積光回路
136エッチングによるもの
出願人
  • 日本電信電話株式会社 NIPPON TELEGRAPH AND TELEPHONE CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 藤原 裕士 FUJIWARA Yuji
  • 片寄 里美 KATAYOSE Satomi
  • 笠原 亮一 KASAHARA Ryoichi
代理人
  • 特許業務法人 谷・阿部特許事務所 TANI & ABE, P.C.
優先権情報
2018-23667118.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) OPTICAL WAVEGUIDE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) GUIDE D'ONDES OPTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 光導波路とその製造方法
要約
(EN)
Provided is an optical waveguide that reduces variation in optical waveguide shape within a substrate surface and that enables reduction of loss in a visible-light waveguide by suppressing sinking of a core layer into a lower clad layer during heat treatment in a manufacturing process. This optical waveguide is provided with a substrate, a lower clad layer formed on the substrate, an etch stop layer formed on the lower clad layer, a core layer formed on the etch stop layer, and an upper clad layer formed on the core layer and the etch stop layer, and is characterized in that the etch stop layer is made of a material having an etching speed lower than that for a material of the core layer and having a softening point higher than that for the material of the core layer.
(FR)
L'invention concerne un guide d'ondes optique qui réduit la variation de la forme d'un guide d'ondes optique à l'intérieur d'une surface de substrat et qui permet la réduction de la perte dans un guide d'ondes de lumière visible en supprimant l'enfoncement d'une couche centrale dans une couche de revêtement inférieure pendant un traitement thermique dans un procédé de fabrication. Ce guide d'ondes optique est pourvu d'un substrat, d'une couche de revêtement inférieure formée sur le substrat, d'une couche d'arrêt de gravure formée sur la couche de revêtement inférieure, une couche centrale formée sur la couche d'arrêt de gravure, et une couche de placage supérieure formée sur la couche centrale et la couche d'arrêt de gravure, et est caractérisé en ce que la couche d'arrêt de gravure est constituée d'un matériau ayant une vitesse de gravure inférieure à celle d'un matériau de la couche centrale et ayant un point de ramollissement supérieur à celui pour le matériau de la couche centrale.
(JA)
製造プロセスの熱処理においてコア層が下部クラッド層中に沈み込むことを抑制して可視光用導波路の低損失化を可能にするとともに、光導波路形状の基板面内ばらつきを抑制する光導波路を提供する。基板と、前記基板上に形成された下部クラッド層と、前記下部クラッド層上に形成されたエッチストップ層と、前記エッチストップ層上に形成されたコア層と、前記コア層及び前記エッチストップ層上に形成された上部クラッド層と、を備えた光導波路であって、前記エッチストップ層はコア層を構成する材料よりもエッチング速度が小さく、且つ前記コア層を構成する材料と比較して軟化点が高い材料で構成されていることを特徴とする光導波路とした。
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