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1. WO2020129611 - 親水性保護基を有するレジスト用重合体

公開番号 WO/2020/129611
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/047181
国際出願日 03.12.2019
IPC
C08F 8/00 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
8後処理による化学的変性
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
出願人
  • 丸善石油化学株式会社 MARUZEN PETROCHEMICAL CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 益川 友宏 MASUKAWA Tomohiro
  • 野嶋 雅貴 NOJIMA Masataka
代理人
  • 永井 浩之 NAGAI Hiroshi
  • 中村 行孝 NAKAMURA Yukitaka
  • 朝倉 悟 ASAKURA Satoru
  • 小島 一真 KOJIMA Kazumasa
優先権情報
2018-23849420.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) POLYMER HAVING HYDROPHILIC PROTECTING GROUP FOR RESISTS
(FR) POLYMÈRE PRÉSENTANT UN GROUPE PROTECTEUR HYDROPHILE POUR RÉSINES PHOTOSENSIBLES
(JA) 親水性保護基を有するレジスト用重合体
要約
(EN)
[Problem] To produce and provide a polymer for resists with high accuracy, said polymer for resists having a high alkali dissolution rate and being useful for a thick resist. [Solution] A polymer for resists, the solubility of which in a developer liquid is changed by the action of an acid, and which has a structure wherein at least some of the phenolic hydroxyl groups in the polymer are protected by groups represented by formula (1). (In formula (1), R1 represents an alkyl group having 1-5 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3-6 carbon atoms; n represents an integer of 1-5; and * represents a binding site to a residue that is obtained by removing a hydrogen atom from a phenolic hydroxyl group.)
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de produire et fournir un polymère pour des résines photosensibles, à une précision élevée, ledit polymère pour résines photosensibles présentant un taux de dissolution alcalin élevé et étant utile pour une résine photosensible épaisse. La solution selon l'invention porte sur un polymère pour des résines photosensibles, dont la solubilité dans un liquide de développement est modifiée par l'action d'un acide et qui présente une structure dans laquelle au moins certains des groupes hydroxyle phénolique dans le polymère sont protégés par des groupes représentés par la formule (1). (Dans La formule (1), R1 représente un groupe alkyle comprenant 1 à 5 atomes de carbone ou un groupe cycloalkyle comprenant 3 à 6 atomes de carbone ; n représente un nombre entier de 1 à 5 ; et * représente un site de liaison à un résidu qui est obtenu par l'élimination d'un atome d'hydrogène d'un groupe hydroxyle phénolique.)
(JA)
[課題]厚膜レジストに有用な、アルカリ溶解速度が大きいレジスト用重合体を精度よく製造し提供する。 [解決手段]酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト用重合体であって、重合体中のフェノール性水酸基の少なくとも一部が以下の式(1): (式(1)中、Rは炭素数1~5のアルキル基又は炭素数3~6のシクロアルキル基を示し、nは1~5の整数を表す。*はフェノール性水酸基から水素原子を除いた残基への結合部を表す。) で表される基で保護された構造を有する、レジスト用重合体。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報