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1. WO2020129526 - 電子デバイスの製造方法及びガラス基板

公開番号 WO/2020/129526
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/045458
国際出願日 20.11.2019
IPC
C03C 17/28 2006.01
C化学;冶金
03ガラス;鉱物またはスラグウール
Cガラス,うわ薬またはガラス質ほうろうの化学組成;ガラスの表面処理;ガラス,鉱物またはスラグ製の繊維またはフィラメントの表面処理;ガラスのガラスまたは他物質への接着
17繊維やフィラメントの形態をとらないガラス,例.結晶化ガラス,の被覆による表面処理
28有機物質によるもの
G09F 9/00 2006.01
G物理学
09教育;暗号方法;表示;広告;シール
F表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9情報が個々の要素の選択または組合せによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
G09F 9/30 2006.01
G物理学
09教育;暗号方法;表示;広告;シール
F表示;広告;サイン;ラベルまたはネームプレート;シール
9情報が個々の要素の選択または組合せによって支持体上に形成される可変情報用の指示装置
30必要な文字が個々の要素を組み合わせることによって形成されるもの
G02F 1/1333 2006.01
G物理学
02光学
F光の強度,色,位相,偏光または方向の制御,例.スイッチング,ゲーテイング,変調または復調のための装置または配置の媒体の光学的性質の変化により,光学的作用が変化する装置または配置;そのための技法または手順;周波数変換;非線形光学;光学的論理素子;光学的アナログ/デジタル変換器
1独立の光源から到達する光の強度,色,位相,偏光または方向の制御のための装置または配置,例.スィッチング,ゲーテイングまたは変調;非線形光学
01強度,位相,偏光または色の制御のためのもの
13液晶に基づいたもの,例.単一の液晶表示セル
133構造配置;液晶セルの作動;回路配置
1333構造配置
出願人
  • 日本電気硝子株式会社 NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 稲山 尚利 INAYAMA Naotoshi
代理人
  • 城村 邦彦 SHIROMURA Kunihiko
  • 熊野 剛 KUMANO Tsuyoshi
  • 吉川 貴士 YOSHIKAWA Takashi
優先権情報
2018-23844320.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD AND GLASS SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIF ÉLECTRONIQUE ET SUBSTRAT EN VERRE
(JA) 電子デバイスの製造方法及びガラス基板
要約
(EN)
This production method for an electronic device 1 having glass substrates GS1, GS2, comprises a preparation step S1 of preparing a glass substrate GS1 having formed on one surface GS1b of the glass substrate GS1, a protective film 12 protecting the one surface GS1b, and a production step S2 of using the glass substrate GS1 to produce the electronic device 1. In the production step S2, the electronic device 1 is produced by supporting the side on which the protective film 12 of the glass substrate GS1 has been formed.
(FR)
L'invention concerne un procédé de production d'un dispositif électronique (1) ayant des substrats en verre (GS1, GS2), comprenant une étape de préparation (S1) consistant à préparer un substrat en verre (GS1) ayant, formé sur une surface (GS1b) du substrat en verre (GS1), un film de protection (12) protégeant ladite surface (GS1b) et une étape de production (S2) consistant à utiliser le substrat en verre (GS1) pour produire le dispositif électronique (1). Dans l'étape de production (S2), le dispositif électronique (1) est produit en supportant le côté sur lequel le film de protection (12) du substrat en verre (GS1) a été formé.
(JA)
ガラス基板GS1,GS2を有する電子デバイス1の製造方法は、ガラス基板GS1の一方の表面GS1bに、一方の表面GS1bを保護する保護膜12が形成されたガラス基板GS1を準備する準備工程S1と、ガラス基板GS1を用いて電子デバイス1を作製する作製工程S2とを備える。作製工程S2では、ガラス基板GS1の保護膜12が形成された側を支持して電子デバイス1を作製する。
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