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1. WO2020129483 - 基板処理装置


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INTERNATIONAL SEARCH REPORT (ISR)
Part 1:  1  2  3  4  5  6          Part 2:  A  B  C  D  E 
国際出願番号 出願人又は代理人の書類記号
PCT/JP2019/044597 P19123-WO
国際出願日 (日.月.年) 優先日 (日.月.年)
13.11.2019 17.12.2018
出願人(氏名又は名称)
株式会社SCREENホールディングス
今後の手続については、: 様式PCT/ISA/220 及び下記5を参照すること。
国際調査機関が作成したこの国際調査報告を法施行規則第41条(PCT18条)の規定に従い出願人に送付する。この写しは国際事務局にも送付される。
1. 国際調査報告の基礎
a. 言語に関し、この国際調査は以下のものに基づき行った。
出願時の言語による国際出願
出願時の言語から国際調査のための言語である                                          に翻訳された、この国際出願の翻訳文(PCT規則12.3(a)及び23.1(b))
b.
この国際調査報告は、PCT規則91の規定により国際調査機関が許可した又は国際調査機関に通知された明らかな誤りの訂正を考慮して作成した(PCT規則43.6の2(a))。
c.
この国際出願で開示されたヌクレオチド又はアミノ酸配列に関して、以下の配列表に基づき国際調査を行った。
2. 請求の範囲の一部の調査ができない
3. 発明の単一性が欠如している
4. 発明の名称
出願人が提出したものを承認する。
次に示すように国際調査機関が作成した。
5. 要約
出願人が提出したものを承認する。
第Ⅳ欄に示されているように、法施行規則第47条第1項(PCT規則38.2)の規定により国際調査機関が作成した。出願人は、この国際調査報告の発送の日から1月以内にこの国際調査機関に意見を提出することができる。

 基板の下面を洗浄するための洗浄液の使用量を削減することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
 基板処理装置は、基板保持部(13)の上面上に基板が保持され、基板保持部(13)の下面および基板保持部(13)に保持された基板の下面の下方に整流部(40)が配置される。整流部(40)の内部空間には気体が充填されている。基板保持部(13)の下面および基板の下面に対向する整流部(40)の上面には、複数の開口部(44)が形成されている。基板に所定の処理を行うために基板保持部(13)が駆動部(11)により回転駆動されると、基板の下面および基板保持部(13)の下面と整流部(40)の上面との間の下方空間に負圧が発生し、内部空間内の気体が複数の開口部(44)を通して下方空間に排出される。


6. 図面
a.
要約とともに公表される図は、 第    4     図とする。
出願人が示したとおりである。
出願人は図を示さなかったので、国際調査機関が選択した。
本図は発明の特徴を一層よく表しているので、国際調査機関が選択した。
b.
要約とともに公表される図はない。

B. 調査を行った分野

調査を行った最小限資料(国際特許分類(IPC)):
最小限資料以外の資料で調査を行った分野に含まれるもの:
日本国実用新案公報              1922‐1996年
日本国公開実用新案公報          1971‐2020年
日本国実用新案登録公報          1996‐2020年
日本国登録実用新案公報          1994‐2020年
国際調査で使用した電子データベース(データベースの名称、調査に使用した用語):

C. 関連すると認められる文献

引用文献のカテゴリー* 引用文献名 及び一部の箇所が関連するときは、その関連する箇所の表示 関連する
請求項の番号
(1)
X
JP 11-283899 A  (大日本スクリーン製造株式会社) 15.10.1999 (1999-10-15)
1-6
[0027]段落、[0031]-[0033]段落、[0038]-[0046]段落、図1、図3-4
(2)
A
JP 2015-146337 A  (東京エレクトロン株式会社) 13.08.2015 (2015-08-13)
1-6
東京エレクトロン株式会社
(3)
A
JP 2009-277796 A  (東京エレクトロン株式会社) 26.11.2009 (2009-11-26)
1-6
全文、全図
(4)
A
JP 9-45611 A  (大日本スクリーン製造株式会社) 14.02.1997 (1997-02-14)
1-6
全文、全図
(5)
A
JP 2006-86204 A  (東京応化工業株式会社) 30.03.2006 (2006-03-30)
1-6
全文、全図
(6)
A
JP 5-161865 A  (大日本インキ化学工業株式会社) 29.06.1993 (1993-06-29)
1-6
全文、全図
(7)
A
JP 2015-138859 A  (三菱電機株式会社) 30.07.2015 (2015-07-30)
1-6
全文、全図
(8)
A
JP 2010-219190 A  (大日本印刷株式会社) 30.09.2010 (2010-09-30)
1-6
全文、全図
*
引用文献のカテゴリー
"A"
特に関連のある文献ではなく、一般的技術水準を示すもの
"D"
国際出願で出願人が先行技術文献として記載した文献
"E"
国際出願日前の出願または特許であるが、国際出願日以後に公表されたもの
"L"
優先権主張に疑義を提起する文献又は他の文献の発行日若しくは他の特別な理由を確立するために引用する文献(理由を付す)
"O"
口頭による開示、使用、展示等に言及する文献
"P"
国際出願日前で、かつ優先権の主張の基礎となる出願の日の後に公表された文献
"T"
国際出願日又は優先日後に公表された文献であって出願と抵触するものではなく、発明の原理又は理論の理解のために引用するもの
"X"
特に関連のある文献であって、当該文献のみで発明の新規性又は進歩性がないと考えられるもの
"Y"
特に関連のある文献であって、当該文献と他の1以上の文献との、当業者にとって自明である組合せによって進歩性がないと考えられるもの
"&"
同一パテントファミリー文献

D. パテントファミリーに関する情報

引用文献 公表日 パテントファミリー文献 公表日
JP 11-283899 A
15.10.1999
(ファミリーなし)
JP 2015-146337 A
13.08.2015
(ファミリーなし)
JP 2009-277796 A
26.11.2009
KR 10-2009-0118820 A
JP 9-45611 A
14.02.1997
US 5762709 A
全文、全図
KR 10-1997-0008330 A
JP 2006-86204 A
30.03.2006
KR 10-2006-0050905 A
CN 1749859 A
TW 200611315 A
JP 5-161865 A
29.06.1993
(ファミリーなし)
JP 2015-138859 A
30.07.2015
(ファミリーなし)
JP 2010-219190 A
30.09.2010
(ファミリーなし)
名称及びあて先:
日本国特許庁(ISA/JP)
東京都千代田区霞が関三丁目4番3号, 100-8915
日本国
国際調査を完了した日:
03.02.2020
国際調査報告の発送日:
10.02.2020
権限のある職員(特許庁審査官):
今井 彰 2G 5703
電話番号 03-3581-1101 内線 3225
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