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1. WO2020129424 - 誘電体膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材

公開番号 WO/2020/129424
公開日 25.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/042794
国際出願日 31.10.2019
IPC
G02B 1/113 2015.01
G物理学
02光学
B光学要素,光学系,または光学装置
1使用物質によって特徴づけられた光学要素;光学要素のための光学的コーティング
10光学要素への塗布または表面処理によって作られた光学的コーティング
11反射防止コーティング
113無機の層材料のみを使用するもの
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C23C 14/08 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
08酸化物
C23C 14/10 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
10ガラスまたはシリカ
出願人
  • コニカミノルタ株式会社 KONICA MINOLTA, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 粕谷 仁一 KASUYA, Jinichi
  • 多田 一成 TADA, Kazunari
代理人
  • 特許業務法人光陽国際特許事務所 KOYO INTERNATIONAL PATENT FIRM
優先権情報
2018-23979921.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DIELECTRIC FILM, METHOD FOR PRODUCING SAME AND OPTICAL MEMBER USING SAME
(FR) FILM DIÉLECTRIQUE, SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET ÉLÉMENT OPTIQUE FAISANT APPEL À CELUI-CI
(JA) 誘電体膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材
要約
(EN)
The present invention addresses the problem of providing: a dielectric film, the surface of which exhibits excellent salt water resistance and excellent scratch resistance, and which is capable of maintaining a low water contact angle for a long period of time in a high temperature high humidity environment; a method for producing this dielectric film; and an optical member which uses this dielectric film. A dielectric film according to the present invention is arranged on a transparent substrate, and this dielectric film is characterized by having at least one low refractive index layer, while being also characterized in that: the uppermost layer of this dielectric film contains SiO2 and has a film density of 92% or more; and the uppermost layer contains an element that has a lower electronegativity than Si.
(FR)
La présente invention aborde le problème consistant à fournir un film diélectrique dont la surface présente une excellente résistance à l'eau salée et une excellente résistance aux rayures et qui est capable de maintenir un faible angle de contact avec l'eau pendant une longue période dans un environnement à haute température et à humidité élevée ; un procédé de production de ce film diélectrique ; et un élément optique qui fait appel à ce film diélectrique. Un film diélectrique selon la présente invention est disposé sur un substrat transparent et ce film diélectrique est caractérisé en ce qu'il possède au moins une couche à faible indice de réfraction, tout en étant également caractérisé en ce que la couche supérieure de ce film diélectrique contient du SiO2 et a une densité de film de 92 % ou plus ; et la couche supérieure contient un élément qui a une électronégativité inférieure au Si.
(JA)
本発明の課題は、表面の塩水耐性や耐傷性に優れ、かつ高温高湿環境下で長期にわたり低い水接触角を維持できる誘電体膜、その製造方法及びそれを用いた光学部材を提供することである。 本発明の誘電体膜は、透明基板上に具備された誘電体膜であって、前記誘電体膜は、少なくとも1層の低屈折率層を有し、前記誘電体膜の最上層がSiO2を含有し、膜密度が92%以上である層であり、かつ、当該最上層が、電気陰性度がSiより小さい元素を含有することを特徴とすることを特徴とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報