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1. WO2020122114 - 透明導電層形成用基材、透明導電性フィルム、タッチパネルおよび透明導電層形成用基材の製造方法

公開番号 WO/2020/122114
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/048453
国際出願日 11.12.2019
IPC
B32B 27/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
H01B 5/14 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Bケーブル;導体;絶縁体;導電性,絶縁性または誘導性特性に対する材料の選択
5形を特徴とする非絶縁導体または導電物体
14絶縁支持体上に導電層または導電フイルムを有するもの
G06F 3/041 2006.01
G物理学
06計算;計数
F電気的デジタルデータ処理
3計算機で処理しうる形式にデータを変換するための入力装置;処理ユニットから出力ユニットへデータを転送するための出力装置,例.インタフェース装置
01ユーザーと計算機との相互作用のための入力装置または入力と出力が結合した装置
03器具の位置または変位をコード信号に変換するための装置
041変換手段によって特徴付けられたデジタイザー,例.タッチスクリーンまたはタッチパッド用のもの
出願人
  • 大塚化学株式会社 OTSUKA CHEMICAL CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 松本 裕伸 MATSUMOTO, Hironobu
  • 黒澤 佳弘 KUROSAWA, Yoshihiro
代理人
  • 特許業務法人上野特許事務所 WENO & PARTNERS
優先権情報
2018-23272312.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SUBSTRATE FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER, TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TOUCH PANEL, AND METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR FORMING TRANSPARENT CONDUCTIVE LAYER
(FR) SUBSTRAT POUR FORMER UNE COUCHE CONDUCTRICE TRANSPARENTE, FILM CONDUCTEUR TRANSPARENT, PANNEAU TACTILE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT POUR FORMER UNE COUCHE CONDUCTRICE TRANSPARENTE
(JA) 透明導電層形成用基材、透明導電性フィルム、タッチパネルおよび透明導電層形成用基材の製造方法
要約
(EN)
Provided are a substrate for forming a transparent conductive layer which exhibits excellent adhesion to a transparent conductive layer to be stacked and has excellent scratch resistance, a method for manufacturing the same, and a transparent conductive film and a touch panel using the same. A substrate 10 for forming a transparent conductive layer includes a substrate film 12 and a first resin layer 14 which is formed on a surface of the substrate film 12, wherein the first resin layer 14 comprises a cured product of a curable composition that includes an ultraviolet-curable resin composition having a silsesquioxane skeleton. A transparent conductive film 80 has a transparent conductive layer 26 on a surface of the first resin layer 14 of the substrate 10 for forming a transparent conductive layer. In this touch panel, the transparent conductive layer 26 of the transparent conductive film 80 is used as an electrode.
(FR)
L'invention concerne un substrat pour former une couche conductrice transparente qui présente une excellente adhérence à une couche conductrice transparente devant être empilée et qui a une excellente résistance aux rayures. L'invention concerne également un procédé de fabrication de celui-ci et un film conducteur transparent et un panneau tactile utilisant celui-ci. Un substrat (10) pour former une couche conductrice transparente comprend un film (12) de substrat et une première couche de résine (14) qui est formée sur une surface du film (12) de substrat, la première couche de résine (14) comprenant un produit durci d'une composition durcissable qui comprend une composition de résine durcissable aux ultraviolets ayant un squelette de silsesquioxane. Un film conducteur transparent (80) comprend une couche conductrice transparente (26) sur une surface de la première couche de résine (14) du substrat (10) pour former une couche conductrice transparente. Dans ce panneau tactile, la couche conductrice transparente (26) du film conducteur transparent (80) est utilisée en tant qu'électrode.
(JA)
積層する透明導電層の密着性に優れるとともに耐擦傷性に優れる透明導電層形成用基材およびその製造方法と、これを用いた透明導電性フィルムおよびタッチパネルを提供する。 透明導電層形成用基材10は、基材フィルム12と、基材フィルム12の面上に形成された第一樹脂層14と、を有し、第一樹脂層14が、シルセスキオキサン骨格を有する紫外線硬化性樹脂を含む硬化性組成物の硬化物からなる。透明導電性フィルム80は、透明導電層形成用基材10の第一樹脂層14の面上に透明導電層26を有する。タッチパネルは、透明導電性フィルム80の透明導電層26が電極に用いられているものである。
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