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1. WO2020121967 - 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法

公開番号 WO/2020/121967
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/047827
国際出願日 06.12.2019
IPC
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
G03F 7/039 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
039光分解可能な高分子化合物,例.ポジ型電子レジスト
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
G03F 7/40 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
26感光材料の処理;そのための装置
40画像様除去後の処理,例.加熱
出願人
  • JSR株式会社 JSR CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 西口 直希 NISHIGUCHI Naoki
  • 松本 朋之 MATSUMOTO Tomoyuki
  • 石井 亮 ISHII Akira
  • 遠藤 彩子 ENDO Ayako
代理人
  • 特許業務法人SSINPAT SSINPAT PATENT FIRM
優先権情報
2018-23286812.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING RESIST PATTERN FILM, AND METHOD FOR PRODUCING SHAPED PLATING STRUCTURE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN FILM DE MOTIF DE RÉSERVE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UNE STRUCTURE DE PLACAGE FAÇONNÉE
(JA) 感光性樹脂組成物、レジストパターン膜の製造方法、およびメッキ造形物の製造方法
要約
(EN)
A photosensitive resin composition containing a polymer (A) having an acid labile group, a photoacid generator (B), and at least one type of compound (C) selected from among the compound (C1) indicated in formula (C1), the compound (C2) indicated in formula (C2), and a polymer of the compound (C2). [The Z in formula (C1) and Z in formula (C2) each represent independently an oxygen atom or a sulfur atom. In formula (C1), each R31 represents independently a monovalent hydrocarbon group or a group wherein at least one hydrogen atom in the monovalent hydrocarbon group has been replaced by a mercapto group, and p represents an integer of 1 or greater. However, in formula (C1), when p is 1, and when p is an integer of 2 or greater and all the Z symbols represent oxygen atoms, at least one of the R31 groups is the group wherein at least one hydrogen atom in the monovalent hydrocarbon group has been replaced with the mercapto group. In formula (C2), R32 and R33 each independently represent a divalent hydrocarbon group, R34 represents a glycoluril ring structure or an isocyanuric ring structure, m represents 1 or 0, and q represents an integer from 1 to 4.]
(FR)
La présente invention concerne une composition de résine photosensible contenant un polymère (A) ayant un groupe labile en milieu acide, un générateur de photoacide (B) et au moins un type de composé (C) choisi parmi le composé (C1) indiqué dans la formule (C1), le composé (C2) indiqué dans la formule (C2), et un polymère du composé (C2). [Les Z dans la formule (C1) et dans la formule (C2) représentent chacun indépendamment un atome d'oxygène ou un atome de soufre. Dans la formule (C1), chaque R31 représente indépendamment un groupe hydrocarboné monovalent ou un groupe dans lequel au moins un atome d'hydrogène situé dans le groupe hydrocarboné monovalent a été remplacé par un groupe mercapto, et p représente un nombre entier supérieur ou égal à 1. Cependant, dans la formule (C1), lorsque p est égal à 1, et lorsque p représente un nombre entier supérieur ou égal à 2 et que tous les symboles Z représentent des atomes d'oxygène, au moins l'un des groupes R31 constitue le groupe dans lequel au moins un atome d'hydrogène situé dans le groupe hydrocarboné monovalent a été remplacé par le groupe mercapto. Dans la formule (C2), R32 et R33 représentent chacun indépendamment un groupe hydrocarboné divalent, R34 représente une structure cyclique glycolurile ou une structure cyclique isocyanurique, m représente 1 ou 0, et q représente un nombre entier de 1 à 4.]
(JA)
酸解離性基を有する重合体(A)と、光酸発生剤(B)と、式(C1)に示す化合物(C1)、式(C2)に示す化合物(C2)および前記化合物(C2)の多量体から選ばれる少なくとも1種の化合物(C)とを含有する、感光性樹脂組成物。[式(C1)および(C2)中、Zは、それぞれ独立に酸素原子または硫黄原子である。式(C1)中、R31は、それぞれ独立に1価の炭化水素基、または前記1価の炭化水素基中の少なくとも1つの水素原子をメルカプト基に置換した基であり、pは1以上の整数である。但し、式(C1)中、pが1である場合、およびpが2以上の整数で全てのZが酸素原子である場合には、少なくとも1つのR31は前記1価の炭化水素基中の少なくとも1つの水素原子をメルカプト基に置換した基である。式(C2)中、R32およびR33は、それぞれ独立に2価の炭化水素基であり、R34は、グリコールウリル環構造またはイソシアヌル環構造を示し、mは、1または0であり、qは、1~4の整数である。]
国際事務局に記録されている最新の書誌情報