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1. WO2020121916 - ラマン散乱増強基板およびその製造方法

公開番号 WO/2020/121916
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/047472
国際出願日 04.12.2019
IPC
C08G 61/12 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
61高分子の主鎖に炭素―炭素連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
12高分子の主鎖に炭素以外の原子を含む高分子化合物
B82Y 30/00 2011.01
B処理操作;運輸
82ナノテクノロジー
Yナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
30材料または表面科学のためのナノテクノロジー,例.ナノ複合材料
B82Y 40/00 2011.01
B処理操作;運輸
82ナノテクノロジー
Yナノ構造物の特定の使用または応用;ナノ構造物の測定または分析;ナノ構造物の製造または処理
40ナノ構造物の製造または処理
G01N 21/65 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
62調査される材料が励起され,それにより光を発しまたは入射光の波長に変化を生ずるシステム
63光学的励起
65ラマン散乱
出願人
  • 国立大学法人東京大学 THE UNIVERSITY OF TOKYO [JP]/[JP]
発明者
  • 合田 圭介 GODA Keisuke
  • チェン ズェンヂョウ CHENG Zhenzhou
  • シャオ ティンフイ XIAO Ting-Hui
  • チェン ナン CHEN Nan
代理人
  • 特許業務法人アイテック国際特許事務所 ITEC INTERNATIONAL PATENT FIRM
優先権情報
2018-23211112.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RAMAN SCATTERING ENHANCEMENT SUBSTRATE AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) SUBSTRAT D'AMÉLIORATION DE LA DIFFUSION RAMAN ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) ラマン散乱増強基板およびその製造方法
要約
(EN)
Provided is a Raman scattering enhancement substrate obtained by arranging, on a supporting base material, a plurality of columnar or massive porous carbon elements by means of a porous material having a carbon pore size of 10-50 nm in diameter. This substrate is produced by, for example: forming a polypyrrole nanoarray by filling a pyrrole as a monomer, into a template in which a plurality of columnar or cube-shaped holes are arranged using an anodic aluminum oxide; making the entirety of the polypyrrole nanoarray into a porous polypyrrole nanoarray with a diameter of 10-50 nm; and baking the resultant porous polypyrrole nanoarray.
(FR)
L'invention concerne un substrat d'amélioration de la diffusion Raman obtenu par agencement, sur un matériau de base de support, d'une pluralité d'éléments carbonés poreux colonnaires ou massifs au moyen d'un matériau poreux ayant une taille de pores de carbone de 10 à 50 nm de diamètre. Ce substrat est produit, par exemple, par : la formation d'un nanoréseau de polypyrrole par remplissage d'un pyrrole utilisé comme monomère, dans une matrice dans laquelle une pluralité de trous colonnaires ou en forme de cube sont agencés en faisant appel à un oxyde d'aluminium anodique ; la fabrication de la totalité du nanoréseau de polypyrrole en un nanoréseau de polypyrrole poreux ayant un diamètre de 10 à 50 nm ; et la cuisson du nanoréseau de polypyrrole poreux ainsi obtenu.
(JA)
支持基材上に、炭素による孔のサイズが直径10~50nmの多孔質材料により柱状または塊状のポーラス炭素素子を複数配列してラマン散乱増強基板とする。この基板は、例えば、陽極性の酸化アルミニウムによって柱状またはキューブ状の複数の孔が配列してなるテンプレートにモノマーとしてのピロールを充填して重合させてポリピロールナノアレイを形成し、ポリピロールナノアレイの全体を直径10~50nmの多孔質としてポーラスポリピロールナノアレイとし、これを焼成することにより製造する。
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