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1. WO2020121820 - 酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法

公開番号 WO/2020/121820
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/046485
国際出願日 28.11.2019
IPC
B01D 53/14 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
14吸収によるもの
B01D 53/18 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
14吸収によるもの
18吸収ユニット;そのための液分配器
B01D 53/62 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
46構造が特定される成分の除去
62炭素酸化物
B01D 53/78 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
74廃ガス浄化のための一般的方法;そのため特に適合した装置または器具
77液相方法
78気液接触によるもの
出願人
  • 三菱重工エンジニアリング株式会社 MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES ENGINEERING, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 林 育成 LIN Yu-Jeng
  • 上條 孝 KAMIJO Takashi
  • 岸本 真也 KISHIMOTO Shinya
  • 乾 正幸 INUI Masayuki
  • 登里 朋来 NOBORISATO Tomoki
代理人
  • 藤田 考晴 FUJITA, Takaharu
優先権情報
2018-23073010.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ACIDIC GAS ABSORPTION APPARATUS AND ACIDIC GAS ABSORPTION METHOD
(FR) APPAREIL D'ABSORPTION DE GAZ ACIDE ET PROCÉDÉ D'ABSORPTION DE GAZ ACIDE
(JA) 酸性ガス吸収装置及び酸性ガス吸収方法
要約
(EN)
Provided is an acidic gas absorption apparatus with which it is possible to suppress the temperature of a contact layer even when the aforementioned layer is above a return position for returning a cooled absorption liquid. The present invention comprises: absorption liquid introduction piping (10) connected to a container (3) above a contact layer (5), the absorption liquid introduction piping (10) introducing an absorption liquid into the container 3; absorption liquid discharge piping (12) connected to a bottom part (3b) of the container (3), the absorption liquid discharge piping (12) discharging the absorption liquid that has absorbed an acidic gas; a first absorption liquid return line (L1) that, after some of the absorption liquid has been extracted from a first height position H1 and the absorption liquid has been cooled by a cooler (18), returns the absorption liquid to the contact layer 5 at a return height position (Hr1) that is higher than the first height position (H1); and a second absorption liquid return line (L2) that, after some of the absorption liquid has been extracted from a second height position (H2) that is higher than the return height position (Hr1) and the absorption liquid has been cooled by a cooler (18), returns the absorption liquid to the contact layer (5).
(FR)
L'invention concerne un appareil d'absorption de gaz acide avec lequel il est possible de supprimer la température d'une couche de contact même lorsque la couche susmentionnée est au-dessus d'une position de retour pour renvoyer un liquide d'absorption refroidi. La présente invention comprend : une tuyauterie d'introduction de liquide d'absorption (10) reliée à un récipient (3) au-dessus d'une couche de contact (5), la tuyauterie d'introduction de liquide d'absorption (10) introduisant un liquide d'absorption dans le récipient 3; une tuyauterie d'évacuation de liquide d'absorption (12) reliée à une partie inférieure (3b) du récipient (3), la tuyauterie d'évacuation de liquide d'absorption (12) évacuant le liquide d'absorption qui a absorbé un gaz acide; une première ligne de retour de liquide d'absorption (L1) qui, après qu'une partie du liquide d'absorption a été extraite d'une première position de hauteur H1 et que le liquide d'absorption a été refroidi par un refroidisseur (18), renvoie le liquide d'absorption à la couche de contact 5 à une position de hauteur de retour (Hr1) qui est supérieure à la première position de hauteur (H1); et une seconde ligne de retour de liquide d'absorption (L2) qui, après qu'une partie du liquide d'absorption a été extraite d'une seconde position de hauteur (H2) qui est supérieure à la position de hauteur de retour (Hr1) et que le liquide d'absorption a été refroidi par un refroidisseur (18), renvoie le liquide d'absorption à la couche de contact (5).
(JA)
冷却後の吸収液を返送する返送位置の上方であっても接触層の温度を抑制することができる酸性ガス吸収装置を提供する。 接触層(5)の上方にて容器(3)に接続され、吸収液を容器3内に導入する吸収液導入配管(10)と、容器(3)の底部(3b)に接続され、酸性ガスを吸収した吸収液を導出する吸収液導出配管(12)と、第1高さ位置H1から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を冷却器(18)にて冷却した後に、第1高さ位置(H1)よりも高い返送高さ位置(Hr1)に吸収液を接触層5に返送する第1吸収液返送ライン(L1)と、返送高さ位置(Hr1)よりも高い第2高さ位置(H2)から吸収液の一部を抜き出し、吸収液を冷却した後に、吸収液を接触層(5)に返送する第2吸収液返送ライン(L2)と、を備えている。
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