処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

出願の表示

1. WO2020121739 - 画像マッチング方法、および画像マッチング処理を実行するための演算システム

公開番号 WO/2020/121739
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/045087
国際出願日 18.11.2019
IPC
G01B 15/00 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
15波動性または粒子性放射線の使用によって特徴づけられた測定装置
G06T 7/00 2017.01
G物理学
06計算;計数
Tイメージデータ処理または発生一般
7イメージ分析
H01L 21/66 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
G01N 23/2251 2018.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
23グループG01N3/00~G01N17/00,G01N21/00またはG01N22/00に包含されない波動性または粒子性放射線,例.X線,中性子線,の使用による材料の調査または分析
22材料からの二次放射の測定によるもの
225電子またはイオンマイクロプローブを用いるもの
2251電子ビームを入射するもの,例.走査型電子顕微鏡[2018.01]
CPC
G01B 15/00
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
15Measuring arrangements characterised by the use of wave or particle radiation
G01N 23/2251
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
23Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
22by measuring secondary emission from the material
225using electron or ion
2251using incident electron beams, e.g. scanning electron microscopy [SEM]
G06T 7/00
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
TIMAGE DATA PROCESSING OR GENERATION, IN GENERAL
7Image analysis
出願人
  • TASMIT株式会社 TASMIT, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 森 泰平 MORI, Taihei
代理人
  • 廣澤 哲也 HIROSAWA, Tetsuya
  • 渡邉 勇 WATANABE, Isamu
優先権情報
2018-23174911.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) IMAGE-MATCHING METHOD, AND COMPUTATION SYSTEM FOR EXECUTING IMAGE-MATCHING PROCESS
(FR) PROCÉDÉ D'APPARIEMENT D'IMAGES ET SYSTÈME DE CALCUL POUR EXÉCUTER UN PROCESSUS D'APPARIEMENT D'IMAGES
(JA) 画像マッチング方法、および画像マッチング処理を実行するための演算システム
要約
(EN)
The present invention pertains to an image-matching process for carrying out positioning of a pattern on design data and a pattern in an image, and in particular pertains to an image-matching process in which there is used a model constructed by machine learning. This method includes: converting a CAD pattern, which was designated in design data, to a CAD image (301); inputting the CAD image (301) to a model constructed by machine learning; executing calculation in accordance with an algorithm defined by the model to thereby output a similar image (321) from the model; and determining a pattern in the similar image (321) that has a shape closest to the shape of the CAD pattern (322), from among a plurality of patterns in an image generated by an image generation device (100).
(FR)
La présente invention concerne un procédé d'appariement d'images pour effectuer un positionnement d'un motif sur des données de conception et un motif dans une image, et concerne en particulier un processus d'appariement d'images lors duquel un modèle construit par apprentissage machine est utilisé. Ce procédé comprend: la conversion d'un motif de conception assistée par ordinateur (CAO), qui a été désigné dans des données de conception, en une image de conception CAO (301); l'entrée de l'image de conception CAO (301) dans un modèle construit par apprentissage machine; l'exécution d'un calcul conformément à un algorithme défini par le modèle pour produire ainsi une image similaire (321) à partir du modèle; et la détermination d'un motif dans l'image similaire (321) qui a une forme la plus proche de la forme du motif de conception CAO (322), parmi une pluralité de motifs dans une image générée par un dispositif de génération d'image (100).
(JA)
本発明は、設計データ上のパターンと、画像上のパターンとの位置合わせを行うための画像マッチング処理に関し、特に機械学習によって構築されたモデルを用いた画像マッチング処理に関する。本方法は、設計データ上の指定されたCADパターンをCAD画像(301)に変換し、CAD画像(301)を、機械学習により構築されたモデルに入力し、モデルによって定義されたアルゴリズムに従って計算を実行することで、モデルから疑似画像(321)を出力し、画像生成装置(100)によって生成された画像上の複数のパターンの中から、疑似画像(321)上のCADパターン(322)の形状に最も近い形状を有するパターンを決定する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報