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1. WO2020121587 - 排ガスのプラズマ除害方法とその装置

公開番号 WO/2020/121587
公開日 18.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/029445
国際出願日 26.07.2019
IPC
B01D 53/74 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
74廃ガス浄化のための一般的方法;そのため特に適合した装置または器具
B01D 53/70 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
D分離
53ガスまたは蒸気の分離;ガスからの揮発性溶剤蒸気の回収;廃ガスの化学的または生物学的浄化,例.エンジン排気ガス,煙,煙霧,煙道ガスまたはエアロゾル
34廃ガスの化学的または生物学的浄化
46構造が特定される成分の除去
68ハロゲンまたはハロゲン化合物
70有機ハロゲン化合物
B01J 19/08 2006.01
B処理操作;運輸
01物理的または化学的方法または装置一般
J化学的または物理的方法,例.触媒またはコロイド化学;それらの関連装置
19化学的,物理的または物理化学的プロセス一般;それらに関連した装置
08電気または波動エネルギーあるいは粒子線放射を直接適用したプロセス;そのための装置
H01L 21/205 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
20基板上への半導体材料の析出,例.エピタキシャル成長
205固体を析出させるガス状化合物の還元または分解を用いるもの,すなわち化学的析出を用いるもの
H05H 1/26 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
26プラズマトーチ
出願人
  • カンケンテクノ株式会社 KANKEN TECHNO CO., LTD. [JP]/[JP] (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • 北京康肯▲環▼保▲設▼▲備▼有限公司 BEIJING KANKEN ENVIRONMENTAL PROTECTION EQUIPMENT CO., LTD. [CN]/[CN] (CN)
発明者
  • 池奥 哲也 IKEOKU Tetsuya
代理人
  • 森 義明 MORI Yoshiaki
  • 市川 真樹 ICHIKAWA Masaki
優先権情報
2018-23462314.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXHAUST-GAS PLASMA DETOXIFICATION METHOD, AND DEVICE FOR SAME
(FR) PROCÉDÉ DE DÉSINTOXICATION PAR PLASMA DE GAZ D'ÉCHAPPEMENT, ET DISPOSITIF ASSOCIÉ
(JA) 排ガスのプラズマ除害方法とその装置
要約
(EN)
Provided is a plasma detoxification method in which all of exhaust gas charged into a thermolysis column is necessarily passed through a high-temperature region formed by a plasma jet and reliably decomposed. In a method for concentrating a plurality of plasma jets (P) toward a point (Q), the respective plasma jets (P) are generated from a plurality of plasma jet torches (2a, 2b, (2c)) installed facing toward a reaction space (D) of exhaust gas (H), the plasma jets (P) jetting toward the given point (Q) within the reaction space (D), and the exhaust gas (H) is supplied toward the point (Q) from between the plurality of plasma jet torches (2a, 2b, (2c)).
(FR)
L'invention concerne un procédé de désintoxication par plasma dans lequel tous les gaz d'échappement chargés dans une colonne de thermolyse sont nécessairement passés à travers une région à haute température formée par un jet de plasma et décomposés de manière fiable. Dans un procédé de concentration d'une pluralité de jets de plasma (P) vers un point (Q), les jets de plasma respectifs (P) sont générés à partir d'une pluralité de torches à jet de plasma (2a, 2b, (2c)) installées en regard d'un espace de réaction (D) de gaz d'échappement (H), les jets de plasma (P) se projetant vers le point donné (Q) à l'intérieur de l'espace de réaction (D), et le gaz d'échappement (H) étant fourni vers le point (Q) entre la pluralité de torches à jet de plasma (2a, 2b, (2c)).
(JA)
熱分解塔に投入された排ガスの全量が必ずプラズマジェットによって形成された高温領域を通過し、確実に分解されるプラズマ除害方法を提供する。 複数のプラズマジェット(P)を点(Q)に向けて集中させる方法で、排ガス(H)の反応空間(D)に向けて設置された複数のプラズマジェットトーチ(2a、2b、(2c))から前記反応空間(D)内の或る点(Q)に向けてそれぞれのプラズマジェット(P)を発生させ、前記複数のプラズマジェットトーチ(2a、2b、(2c))の間から前記点(Q)に向けて排ガス(H)を供給する。
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