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1. WO2020116397 - インプリント用レプリカモールド及びその作製方法

公開番号 WO/2020/116397
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/047048
国際出願日 02.12.2019
IPC
B32B 27/30 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
30ビニル樹脂からなるもの;アクリル樹脂からなるもの
C08F 290/06 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
290脂肪族不飽和の末端基または側基の導入により変性された重合体に,単量体を重合させて得られる高分子化合物
02不飽和末端基の導入により変性された重合体への
06サブクラスC08Gに分類される重合体
H01L 21/027 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
027その後のフォトリソグラフィック工程のために半導体本体にマスクするもので,グループH01L21/18またはH01L21/34に分類されないもの
B29C 33/38 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
33型またはコア;その細部または付属装置
38材料または製造方法に特微があるもの
B29C 33/56 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
33型またはコア;その細部または付属装置
56被覆剤;離型剤,潤滑剤または分離剤
B29C 59/02 2006.01
B処理操作;運輸
29プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般
Cプラスチックの成形または接合;他に分類されない可塑状態の材料の成形;成形品の後処理,例.補修
59表面成形,例.エンボス;そのための装置
02機械的手段,例.プレス,によるもの
出願人
  • 日産化学株式会社 NISSAN CHEMICAL CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 小林 淳平 KOBAYASHI, Junpei
  • 加藤 拓 KATO, Taku
  • 長澤 偉大 NAGASAWA, Takehiro
代理人
  • 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所 HANABUSA PATENT & TRADEMARK OFFICE
優先権情報
2018-22974707.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) REPLICA MOLD FOR IMPRINTING AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MOULE DE RÉPLIQUE POUR EMPREINTE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION CORRESPONDANT
(JA) インプリント用レプリカモールド及びその作製方法
要約
(EN)
[Problem] To provide a novel replica mold for imprinting. [Solution] A replica mold for imprinting, which is provided with a layer A described below and a layer B described below, said layer B being bonded to the layer A. Layer A: a structure which is formed of a cured product of a composition that contains the following component (a1) and component (a2) Component (a1): a compound which has at least one radically polymerizable group in each molecule Component (a2): a radical photopolymerization initiator in an amount of from 0.01% by mass to 0.3% by mass relative to 100% by mass of the component (a1) Layer B: a film which is formed of a cured product of a composition that contains the following component (b1) and component (b2) Component (b1): a compound which is composed of a linear or chain-like molecular chain containing a fluorine atom, and which has a radically polymerizable group at all terminals of the molecular chain Component (b2): a radical photopolymerization initiator in an amount of from 0.05% by mass to 15% by mass relative to 100% by mass of the component (b1)
(FR)
Le problème décrit par la présente invention est de fournir un nouveau moule de réplique pour empreinte. La solution selon l'invention porte sur un moule de réplique pour empreinte, qui est pourvu d'une couche (A) décrite ci-dessous et d'une couche (B) décrite ci-dessous, ladite couche (B) étant liée à la couche (A). Couche (A) : une structure qui est formée d'un produit durci d'une composition qui contient le composant suivant (a1) et le composant suivant (a2). Composant (a1) : un composé qui a au moins un groupe polymérisable par voie radicalaire dans chaque molécule. Composant (a2) : un initiateur de photopolymérisation radicalaire à hauteur de 0,01 % en masse à 0,3 % en masse par rapport à 100 % en masse du composant (a1). Couche (B) : un film qui est formé d'un produit durci d'une composition qui contient le composant suivant (b1) et le composant suivant (b2). Composant (b1) : un composé qui est composé d'une chaîne moléculaire linéaire ou de type chaîne contenant un atome de fluor et qui a un groupe polymérisable par voie radicalaire à toutes les terminaisons de la chaîne moléculaire. Composant (b2) : un initiateur de photopolymérisation radicalaire à hauteur de 0,05 % en masse à 15 % en masse par rapport à 100 % en masse du composant (b1).
(JA)
【課題】 新規なインプリント用レプリカモールドを提供する。 【解決手段】 下記A層及び該A層に接着した下記B層を備えたインプリント用レプリカモールド。 A層:下記(a1)成分及び(a2)成分を含む組成物の硬化物から成る構造体 (a1)成分:ラジカル重合性基を1分子中に少なくとも1つ有する化合物 (a2)成分:前記(a1)成分100質量%に対し、0.01質量%乃至0.3質量%の光ラジカル重合開始剤 B層:下記(b1)成分及び(b2)成分を含む組成物の硬化物から成る膜 (b1)成分:フッ素原子を含む線状又は鎖状の分子鎖からなる化合物であって該分子鎖の全ての末端にラジカル重合性基を有する化合物 (b2)成分:前記(b1)成分100質量%に対し、0.05質量%乃至15質量%の光ラジカル重合開始剤
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