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1. WO2020116257 - プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法

公開番号 WO/2020/116257
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/046236
国際出願日 26.11.2019
IPC
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
  • 国立大学法人東北大学 TOHOKU UNIVERSITY [JP]/[JP]
発明者
  • 平山 昌樹 HIRAYAMA Masaki
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 黒木 義樹 KUROKI Yoshiki
  • 柏岡 潤二 KASHIOKA Junji
優先権情報
2018-22924306.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND PLASMA PROCESSING METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
要約
(EN)
This plasma processing device according to an exemplary embodiment is provided with: a processing container, a stage, a dielectric plate, an upper electrode, an introduction unit, a driving shaft, and an actuator. The stage is provided in the processing container. The dielectric plate is provided through a space in the processing container above the stage. The upper electrode is flexible, is provided above the dielectric plate, and provides a gap between the dielectric plate and the upper electrode. The introduction unit is a high frequency introduction unit for a VHF wave or a UHF wave, and is provided at a horizontal end part of the space. The driving shaft is combined with the upper electrode on a central axis line of the processing container. The actuator is formed to move the driving shaft in a vertical direction.
(FR)
Selon un mode de réalisation, le dispositif de traitement par plasma de l'invention est équipé d'un réceptacle de traitement, d'une platine, d'une plaque diélectrique, d'une électrode de partie supérieure, d'une partie induction, d'un axe d'entraînement et d'un actionneur. La platine est agencée à l'intérieur du réceptacle de traitement. La plaque diélectrique est agencée au-dessus de la platine avec l'espace à l'intérieur du réceptacle de traitement pour intermédiaire. L'électrode de partie supérieure est flexible, est agencée au-dessus de la plaque diélectrique, et fournit un interstice vis-à-vis de la plaque diélectrique. La partie induction est une partie induction d'ondes haute fréquence consistant en des ondes très haute fréquence ou des ondes ultra haute fréquence, et est agencée dans une partie extrémité de direction latérale dudit espace. L'axe d'entraînement est lié à l'électrode de partie supérieure sur une ligne d'axe central du réceptacle de traitement. L'actionneur est configuré de manière à déplacer l'axe d'entraînement dans la direction verticale.
(JA)
例示的実施形態に係るプラズマ処理装置は、処理容器、ステージ、誘電体板、上部電極、導入部、駆動軸、及びアクチュエータを備える。ステージは、処理容器内に設けられている。誘電体板は、ステージの上方に処理容器内の空間を介して設けられている。上部電極は、可撓性を有し、誘電体板の上方に設けられており、誘電体板と上部電極との間に間隙を提供する。導入部は、VHF波又はUHF波である高周波の導入部であり、上記空間の横方向端部に設けられている。駆動軸は、処理容器の中心軸線上で上部電極に結合されている。アクチュエータは、駆動軸を鉛直方向に移動させるように構成されている。
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