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1. WO2020116252 - プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法

公開番号 WO/2020/116252
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/046226
国際出願日 26.11.2019
IPC
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
  • 国立大学法人東北大学 TOHOKU UNIVERSITY [JP]/[JP]
発明者
  • 平山 昌樹 HIRAYAMA Masaki
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 黒木 義樹 KUROKI Yoshiki
  • 柏岡 潤二 KASHIOKA Junji
優先権情報
2018-22922806.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA TREATMENT DEVICE AND PLASMA TREATMENT METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE TRAITEMENT PAR PLASMA
(JA) プラズマ処理装置、及び、プラズマ処理方法
要約
(EN)
A technique is provided which, in a plasma treatment device, can improve uniformity of the electric potential generated on the upper electrode side in the space between an upper electrode and a stage during plasma generation. This plasma treatment device is provided with a treatment container, a stage, an upper electrode, a shower plate and a waveguide. The stage is provided in the treatment container, the shower plate is provided above the stage with the space in the treatment container therebetween, the upper electrode is provided above the shower plate, the waveguide has an end section and guides VHF-band or UHF-band high-frequency waves, the end section is arranged facing the space and emits the high-frequency waves into the space, the shower plate is provided with multiple pillars and is formed from a dielectric body, a gap is provided inside the shower plate, and multiple pillars are arranged in the gap.
(FR)
L'invention fournit une technologie permettant d'améliorer l'uniformité d'un potentiel électrique généré côté électrode de partie supérieure lors d'une production de plasma dans un espace entre une électrode de partie supérieure et une platine, dans un dispositif de traitement par plasma. Selon un mode de réalisation, le dispositif de traitement par plasma de l'invention est équipé d'un réceptacle de traitement, d'une platine, d'une électrode de partie supérieure, d'une plaque d'aspersion et d'un guide d'ondes. La platine est agencée à l'intérieur du réceptacle de traitement. La plaque d'aspersion est agencée au-dessus de la platine avec un espace à l'intérieur du réceptacle de traitement pour intermédiaire. L'électrode de partie supérieure est agencée au-dessus de la plaque d'aspersion. Le guide d'ondes est équipé d'une partie extrémité, et guide des ondes haute fréquence d'une bande de très hautes fréquences ou d'une bande de ultra hautes fréquences. La partie extrémité est disposée en direction de l'espace et irradie ce dernier d'ondes haute fréquence. La plaque d'aspersion est équipée d'une pluralité de piliers, et est formée d'un corps diélectrique. Un espace est agencé à l'intérieur de la plaque d'aspersion, et la pluralité de piliers est disposée à l'intérieur de cet espace.
(JA)
プラズマ処理装置において上部電極とステージとの間の空間でプラズマ生成時に上部電極側に生じる電位の均一性を向上し得る技術を提供する。例示的実施形態に係るプラズマ処理装置は、処理容器とステージと上部電極とシャワープレートと導波路とを備える。ステージは処理容器内に設けられ、シャワープレートはステージの上方に処理容器内の空間を介して設けられ、上部電極はシャワープレートの上方に設けられ、導波路は端部を備えVHF帯又はUHF帯の高周波を導波し、端部は空間に向いて配置されており空間に高周波を放射し、シャワープレートは複数のピラーを備え誘電体から形成され、シャワープレートの内には空隙が設けられ、空隙の内には複数のピラーが配置されている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報