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1. WO2020116248 - プラズマ処理装置

公開番号 WO/2020/116248
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/046221
国際出願日 26.11.2019
IPC
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
出願人
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 池田 太郎 IKEDA Taro
  • 田中 澄 TANAKA Sumi
代理人
  • 長谷川 芳樹 HASEGAWA Yoshiki
  • 黒木 義樹 KUROKI Yoshiki
  • 柏岡 潤二 KASHIOKA Junji
優先権情報
2018-22925306.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA PROCESSING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA
(JA) プラズマ処理装置
要約
(EN)
Provided is a plasma processing device which is capable of enabling uniform plasma distribution. The plasma processing device is provided with an upper electrode and a lower electrode disposed opposite to each other in a processing container and generates plasma in the space between the electrodes, wherein the upper electrode and the lower electrode are respectively provided with recessed parts on the opposite faces, and an upper dielectric and a lower dielectric are respectively provided in the recessed parts of the upper electrode and the lower electrode, and a VHF wave introducing part is provided in a horizontal end part of the space SP between the upper dielectric and the lower dielectric.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma qui est capable de permettre une distribution de plasma uniforme. Le dispositif de traitement au plasma est pourvu d'une électrode supérieure et d'une électrode inférieure disposées en regard l'une de l'autre dans un conteneur de traitement et génère un plasma dans l'espace entre les électrodes, l'électrode supérieure et l'électrode inférieure étant respectivement pourvues de parties évidées sur les faces en regard, et un diélectrique supérieur et un diélectrique inférieur sont respectivement disposés dans les parties évidées de l'électrode supérieure et de l'électrode inférieure, et une partie d'introduction d'onde VHF est disposée dans une partie d'extrémité horizontale de l'espace SP entre le diélectrique supérieur et le diélectrique inférieur.
(JA)
プラズマ分布を均一にすることが可能なプラズマ処理装置を提供する。処理容器内に対向配置された上部電極及び下部電極を備え、これらの電極間の空間にプラズマを発生させるプラズマ処理装置において、上部電極及び下部電極は、それぞれ互いに対向する面に凹部を備え、上部電極及び下部電極それぞれの凹部内には、上部誘電体及び下部誘電体がそれぞれ設けられ、上部誘電体と下部誘電体との間の空間SPの横方向端部には、VHF波導入部が設けられている。
他の公開
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