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1. WO2020116099 - 露光用光源装置

公開番号 WO/2020/116099
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/044321
国際出願日 12.11.2019
IPC
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
H05K 3/00 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
K印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3印刷回路を製造するための装置または方法
出願人
  • ウシオ電機株式会社 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
発明者
  • 三浦 雄一 MIURA,Yuichi
  • 林 賢志 HAYASHI,Kenji
代理人
  • 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE
優先権情報
2018-22843505.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXPOSURE LIGHT SOURCE DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE D'EXPOSITION
(JA) 露光用光源装置
要約
(EN)
Provided is an exposure light source device (1) that uses a plurality of semiconductor light sources (11) to supply light having a uniform positional distribution and angular distribution. The exposure light source device (1) is provided with: a plurality of semiconductor laser units (10) each comprising a plurality of semiconductor laser light sources (11), a plurality of collimating optical systems (12) for converting light beams emitted from the semiconductor laser light sources (11) into approximately parallel light beams and emitting the result, a diffusing optical system (13) into which the plurality of light beams emitted from the plurality of collimating optical systems (12) enter and are individually converted into light beams to be diffused, and from which the result is then emitted, and a focusing optical system (14) for focusing the light beams emitted from the diffusing optical system (13); and an integrator optical system (15) having an entry surface arranged at the position at which the plurality of light beams emitted from the plurality of semiconductor laser units (10) are focused. In the diffusing optical systems (13), at least some of the light beams emitted from the different semiconductor laser light sources (11) are arranged at overlapping positions on the entry surface of the focusing optical system (14).
(FR)
L'invention concerne un dispositif de source de lumière d'exposition (1) qui utilise une pluralité de sources de lumière à semi-conducteur (11) pour fournir de la lumière ayant une distribution de position et une distribution angulaire uniformes. Le dispositif de source de lumière d'exposition (1) comprend : une pluralité d'unités laser à semi-conducteur (10) comprenant chacune une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur (11), une pluralité de systèmes optiques de collimation (12) servant à convertir des faisceaux lumineux émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur (11) en faisceaux lumineux approximativement parallèles et à en émettre le résultat, un système optique de diffusion (13) dans lequel la pluralité de faisceaux lumineux émis par la pluralité de systèmes optiques de collimation (12) entrent et sont individuellement convertis en faisceaux lumineux à diffuser, et dont le résultat est ensuite émis, et un système optique de focalisation (14) servant à focaliser les faisceaux lumineux émis par le système optique de diffusion (13) ; et un système optique intégrateur (15) doté d'une surface d'entrée disposée au niveau de l'emplacement vers lequel la pluralité de faisceaux lumineux émis par la pluralité d'unités laser à semi-conducteur (10) sont focalisés. Dans les systèmes optiques de diffusion (13), au moins certains des faisceaux lumineux émis par les différentes sources de lumière laser à semi-conducteur (11) sont disposés à des positions qui se chevauchent sur la surface d'entrée du système optique de focalisation (14).
(JA)
複数の半導体レーザ光源(11)を用いて、均一な位置分布及び角度分布の光を供給する露光用光源装置(1)を提供する。 露光用光源装置(1)は、複数の半導体レーザ光源(11)と、前記半導体レーザ光源(11)から出射された光線束を、略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系(12)と、前記複数のコリメート光学系(12)から出射された複数の光線束が入射され、それぞれを発散する光線束に変換して出射する拡散光学系(13)と、前記拡散光学系(13)から出射された光線束を集光する集光光学系(14)と、をそれぞれに含んでなる、複数の半導体レーザユニット(10)と、前記複数の半導体レーザユニット(10)から出射された複数の光線束が集光する位置に入射面が配置された、インテグレータ光学系(15)とを備え、前記拡散光学系(13)は、異なる前記半導体レーザ光源(11)から出射された光線束の少なくとも一部分が前記集光光学系(14)の入射面上で重なり合う位置に配置されている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報