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1. WO2020116081 - 露光用光源装置

公開番号 WO/2020/116081
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/043595
国際出願日 07.11.2019
IPC
H05K 3/00 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
K印刷回路;電気装置の箱体または構造的細部,電気部品の組立体の製造
3印刷回路を製造するための装置または方法
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
H05K 3/00
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
3Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
出願人
  • ウシオ電機株式会社 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
発明者
  • 三浦 雄一 MIURA,Yuichi
  • 林 賢志 HAYASHI,Kenji
代理人
  • 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE
優先権情報
2018-22855305.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXPOSURE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE POUR EXPOSITION
(JA) 露光用光源装置
要約
(EN)
To provide a light source device for exposure that supplies light, by using a plurality of semiconductor laser light sources, having an angular distribution equal to that of a light source device using a discharge lamp. This light source device for exposure is provided with: a plurality of semiconductor laser light sources; a plurality of collimator optical systems that convert light ray fluxes emitted from the semiconductor laser light sources into substantially parallel light ray fluxes and emit the same; a collecting optical system that collects the light ray fluxes emitted from the collimator optical systems; and an optical waveguide including a circular light incident surface. On the light incident surface of the collecting optical system, when the light ray fluxes emitted from the plurality of semiconductor laser light sources are virtually rotated about the optical axis of the collecting optical system and aligned in the same radial direction, adjoining ones of the light ray fluxes partially overlap each other. The plurality of semiconductor laser light sources are disposed such that, on the incident surface of the collecting optical system, the number of light ray fluxes, which belong to a light ray flux group and are at the same distance from the optical axis of the collecting optical system, gradually decreases toward the direction away from the optical axis, with a n-th light ray flux group, which is n-th closest to the optical axis, set as the reference.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de source de lumière pour exposition qui fournit de la lumière en utilisant une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur, ayant une distribution angulaire égale à celle d'un dispositif de source de lumière à l'aide d'une lampe à décharge. Ce dispositif de source de lumière pour exposition comporte une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur ; une pluralité de systèmes optiques de collimateur qui convertissent des flux de rayons lumineux émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur en flux de rayons lumineux sensiblement parallèles et émettent ceux-ci ; un système optique de collecte qui collecte les flux de rayons lumineux émis par les systèmes optiques de collimateur ; et un guide d'ondes optiques comprenant une surface d'incidence de lumière circulaire. Sur la surface d'incidence de lumière du système optique de collecte, lorsque les flux de rayons lumineux émis par la pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur sont amenés à tourner virtuellement autour de l'axe optique du système optique de collecte et sont alignés dans la même direction radiale, des flux de rayons lumineux adjacents se chevauchent partiellement. La pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur sont disposées de telle sorte que, sur la surface incidente du système optique de collecte, le nombre de flux de rayons lumineux, qui appartiennent à un groupe de flux de rayons lumineux et sont à même distance de l'axe optique du système optique de collecte, diminue progressivement vers la direction en s'éloignant de l'axe optique, avec un n-ième groupe de flux de rayons lumineux, étant le n-ième le plus proche de l'axe optique, défini comme référence.
(JA)
複数の半導体レーザ光源を用いて、放電ランプを用いた光源装置と同等の角度分布の光を供給する露光用光源装置を提供する。 複数の半導体レーザ光源と、半導体レーザ光源から出射された光線束を、略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系と、コリメート光学系から出射された光線束を集光する集光光学系と、円形状の入射面を含む光導波路とを備え、集光光学系の入射面における、複数の半導体レーザ光源から出射されたそれぞれの光線束は、仮想的に集光光学系の光軸を中心に回転させて、同一の径方向に向かって並べたときに、隣接する光線束の一部が重なっており、複数の半導体レーザ光源は、集光光学系の入射面において、集光光学系の光軸からの距離が同一である光線束群に属する光線束の数が、光軸からの距離がn番目に近い第n光線束群を基準として、光軸から離れるにつれて逓減するように配置されている。
他の公開
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