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1. WO2020115962 - 成膜装置及び成膜方法

公開番号 WO/2020/115962
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/034003
国際出願日 29.08.2019
IPC
C23C 14/50 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
22被覆の方法に特徴のあるもの
50基板保持具
B05C 9/12 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
9グループB05C1/00~B05C7/00に包含されない手段によって表面に液体もしくは他の流動性材料を適用する装置または設備,または液体もしくは他の流動性材料を適用する手段が重要でないような装置もしくは設備
08液体または他の流動性材料を適用しかつ補助操作を行なうためのもの
12補助操作が適用後に行なわれるもの
B05C 11/10 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
11グループB05C1/00からB05C9/00までに特に分類されない構成部品,細部または付属品
10液体または他の流動性材料の貯留,供給または制御;余剰の液体または他の流動性材料の回収
B05D 3/00 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
3液体または他の流動性材料を適用する表面の前処理;適用されたコーティングの後処理,例.液体または他の流動性材料を続いて適用することに先だってなされるすでに適用されたコーティングの中間処理
B05D 3/06 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
D液体または他の流動性材料を表面に適用する方法一般
3液体または他の流動性材料を適用する表面の前処理;適用されたコーティングの後処理,例.液体または他の流動性材料を続いて適用することに先だってなされるすでに適用されたコーティングの中間処理
06放射線にさらすことによるもの
C23C 14/12 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
14被覆形成材料の真空蒸着,スパッタリングまたはイオン注入法による被覆
06被覆材料に特徴のあるもの
12有機質材料
出願人
  • 株式会社アルバック ULVAC, INC. [JP]/[JP]
発明者
  • 加藤 裕子 KATO, Yuko
  • 矢島 貴浩 YAJIMA, Takahiro
  • 中村 文生 NAKAMURA, Fumio
  • 植 喜信 UE, Yoshinobu
  • 小倉 祥吾 OGURA, Shougo
代理人
  • 大森 純一 OMORI, Junichi
優先権情報
2018-22677303.12.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) FILM FORMING APPARATUS AND FILM FORMING METHOD
(FR) APPAREIL DE FORMATION DE FILM ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE FILM
(JA) 成膜装置及び成膜方法
要約
(EN)
[Problem] To form a resin layer on a substrate with a good film thickness distribution. [Solution] A cooling stage of a film forming apparatus according to the present invention has a supporting surface that supports a substrate and a lateral part that is continuous with the supporting surface; and the cooling stage is configured such that the outer edge of the substrate supported by the supporting surface protrudes beyond the lateral part. A deposition prevention frame unit has an annular shape and is arranged so as to surround the lateral part of the cooling stage, while being provided with a recess in a position facing the outer edge of the substrate; and the lateral part is surrounded by the recess. A gas supply unit supplies a starting material gas that contains an energy ray-curable resin toward the supporting surface. An irradiation source faces the supporting surface and irradiates the supporting surface with an energy ray that cures the energy ray-curable resin. A vacuum tank contains the cooling stage, the deposition prevention frame unit, the gas supply unit and the irradiation source.
(FR)
La présente invention a pour objet de former une couche de résine sur un substrat avec une bonne distribution d'épaisseur de film. À cet effet, la présente invention porte sur un appareil de formation de film comprenant un plateau de refroidissement qui a une surface de support qui supporte un substrat et une partie latérale qui est en continuité avec la surface de support, le plateau de refroidissement étant conçu de façon telle que le bord extérieur du substrat supporté par la surface de support dépasse de la partie latérale. L'appareil comprend également une unité cadre de prévention des dépôts qui a une forme annulaire et qui est agencée de façon à entourer la partie latérale du plateau de refroidissement, tout en étant pourvue d'un creux dans une position faisant face au bord extérieur du substrat et la partie latérale étant entourée du creux. L'appareil comprend également une unité d'alimentation en gaz envoyant une matière de départ gazeuse qui contient une résine durcissable par des rayons énergétiques vers la surface de support. L'appareil comprend également une source d'exposition à un rayonnement faisant face à la surface de support et exposant la surface de support à des rayons énergétiques qui durcissent la résine durcissable par des rayons énergétiques. L'appareil comprend également un bac sous vide contenant le plateau de refroidissement, l'unité cadre de prévention des dépôts, l'unité d'alimentation en gaz et la source d'exposition à un rayonnement.
(JA)
【課題】基板上に良好な膜厚分布で樹脂層を形成する。 【解決手段】 成膜装置において、記冷却ステージは、基板を支持する支持面と支持面に連なる側面部とを有し、支持面に支持される上記基板の外周端が側面部から突き出るように構成される。防着枠部は、環状であり、冷却ステージの側面部を囲むように配置され、基板の上記外周端に対向する位置に凹部が設けられ、凹部により側面部が囲まれる。ガス供給部は、支持面に向けてエネルギ線硬化樹脂を含む原料ガスを供給する。照射源は、支持面に対向し、エネルギ線硬化樹脂を硬化させるエネルギ線を上記支持面に向けて照射する。真空槽は、冷却ステージ、防着枠部、ガス供給部、及び照射源を収容する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報