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1. WO2020115825 - 荷電粒子源、荷電粒子線装置

公開番号 WO/2020/115825
公開日 11.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2018/044634
国際出願日 05.12.2018
IPC
H01J 1/304 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
1電子管または放電ランプの2以上の基本的な型に共通な電極,磁気制御手段,スクリーンあるいはそれらのマウントまたは間隔保持の細部
02主電極
30冷陰極
304電界放射陰極
H01J 9/02 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
9電子管,放電ランプまたはその部品の製造に特に適用される装置または方法;電子管または放電ランプからの材料の回収
02電極または電極システムの製造
H01J 37/06 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06電子源;電子銃
H01J 37/073 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
04電極装置および放電を発生しまたは制御するための関連部品,例.電子光学装置,イオン光学装置
06電子源;電子銃
073電界放出,光電子放出,または2次電子放出による電子源を用いる電子銃
出願人
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 福田 真大 FUKUTA Masahiro
  • 本田 和広 HONDA Kazuhiro
代理人
  • 特許業務法人平木国際特許事務所 HIRAKI & ASSOCIATES
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CHARGED PARTICLE SOURCE AND CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) SOURCE DE PARTICULES CHARGÉES ET DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子源、荷電粒子線装置
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a charged particle source that exhibits small energy dispersion for charged particle beams emitted under a high angular current density condition and allows stable acquisition of large charged particle currents even for a small light source diameter. A charged particle source according to the present invention has a spherical virtual cathode surface from which charged particles are emitted, and the virtual cathode surface for charged particles emitted from a first position on the tip end surface of an emitter and the virtual cathode surface for charged particles emitted from a second position on the tip end surface of the emitter match each other (See Fig. 4).
(FR)
L'objet de la présente invention est de mettre en œuvre une source de particules chargées qui présente une faible dispersion d'énergie pour des faisceaux de particules chargées émis dans une condition de densité de courant angulaire élevée et qui permet l'acquisition stable de forts courants de particules chargées même pour un petit diamètre de source de lumière. Une source de particules chargées selon la présente invention a une surface de cathode virtuelle sphérique depuis laquelle des particules chargées sont émises, et la surface de cathode virtuelle pour des particules chargées émises depuis une première position sur la surface d'extrémité de pointe d'un émetteur et la surface de cathode virtuelle pour des particules chargées émises depuis une deuxième position sur la surface d'extrémité de pointe de l'émetteur se correspondent (voir Fig. 4).
(JA)
本発明は、高角電流密度条件においても、放出される荷電粒子ビームのエネルギー分散が小さく、小さい光源径であっても安定して大きな荷電粒子電流を得ることができる荷電粒子源を提供することを目的とする。本発明に係る荷電粒子源は、荷電粒子が出射する仮想陰極面が球面形状を有しており、エミッタ先端表面の第1位置から放出される荷電粒子の仮想陰極面と、前記エミッタ先端表面の第2位置から放出される荷電粒子の仮想陰極面とが一致する(図4参照)。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報