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1. WO2020110648 - 清掃装置

公開番号 WO/2020/110648
公開日 04.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/043645
国際出願日 07.11.2019
IPC
B05C 5/02 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
5液体または他の流動性材料が被加工物の表面上に射出,注出あるいは流下されるようにした装置
02被加工物と接触またはほとんど接触している出口機構からのもの
B05C 11/10 2006.01
B処理操作;運輸
05霧化または噴霧一般;液体または他の流動性材料の表面への適用一般
C液体または他の流動性材料を表面に適用する装置一般
11グループB05C1/00からB05C9/00までに特に分類されない構成部品,細部または付属品
10液体または他の流動性材料の貯留,供給または制御;余剰の液体または他の流動性材料の回収
CPC
B05C 11/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
11Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
B05C 5/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
5Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
02the liquid or other fluent material being discharged through an outlet orifice by pressure, e.g.; from an outlet device in contact or almost in contact, with the work
出願人
  • 東レエンジニアリング株式会社 TORAY ENGINEERING CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 鈴木 暁雄 SUZUKI, Akio
  • 岡本 俊一 OKAMOTO, Shunichi
優先権情報
2018-22245828.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CLEANING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE
(JA) 清掃装置
要約
(EN)
Provided is a cleaning device capable of removing a deposit, etc., that has adhered to an applicator, even an applicator in which a high-viscosity application solution is used. Specifically, a cleaning device for cleaning a deposit that has adhered to an applicator extending in one direction formed on a substrate-facing surface that faces a substrate, wherein: the cleaning device is equipped with a cleaning unit that comes into contact with the applicator, and a moving device that causes the cleaning unit to move relatively in the longitudinal direction of the applicator while in contact with the applicator; the cleaning unit is equipped with a first cleaning portion disposed on the front side of the cleaning movement direction, and a second cleaning portion disposed on the rear side of the first cleaning portion; the first cleaning portion has a first cleaning member that contacts the substrate-facing surface and an inclined side surface that is continuous with the substrate-facing surface in the applicator; the second cleaning portion has a second cleaning member that contacts the substrate-facing surface and the inclined side surface in the applicator; and the first cleaning member is configured so as to be formed from a highly rigid material that is less likely to be deformed along the contacting counterpart surface than the second cleaning member.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de nettoyage susceptible d'enlever un dépôt et autres, qui a adhéré à un applicateur, même à un applicateur dans lequel une solution d'application de viscosité élevée est utilisée. Spécifiquement, l'invention concerne un dispositif de nettoyage pour nettoyer un dépôt qui a adhéré à un applicateur s'étendant dans une direction formée sur une surface faisant face à un substrat qui fait face à un substrat, le dispositif de nettoyage étant équipé d'une unité de nettoyage qui vient en contact avec l'applicateur et d'un dispositif de déplacement qui amène l'unité de nettoyage à se déplacer relativement dans la direction longitudinale de l'applicateur tout en étant en contact avec l'applicateur ; l'unité de nettoyage est équipée d'une première partie de nettoyage disposée sur le côté avant de la direction de déplacement de nettoyage et d'une seconde partie de nettoyage disposée sur le côté arrière de la première partie de nettoyage ; la première partie de nettoyage comporte un premier élément de nettoyage qui entre en contact avec la surface faisant face au substrat et une surface latérale inclinée qui est continue avec la surface faisant face au substrat dans l'applicateur ; la seconde partie de nettoyage comporte un second élément de nettoyage qui entre en contact avec la surface faisant face au substrat et la surface latérale inclinée dans l'applicateur ; et le premier élément de nettoyage est conçu de façon à être formé à partir d'un matériau hautement rigide qui est moins susceptible d'être déformé le long de la surface de contrepartie de contact que le second élément de nettoyage.
(JA)
高粘度の塗布液を用いる塗布器であっても、塗布器に付着した付着物等を除去することができる清掃装置を提供する。具体的には、基板と対向する基板対向面に形成された一方向に延びる塗布器に付着した付着物を清掃する清掃装置であって、塗布器に当接する清掃ユニットと、清掃ユニットが塗布器に当接した状態で塗布器の長手方向に相対的に移動させる移動装置と、を備えており、清掃ユニットは、清掃移動方向前側に配置される第1清掃部とこの第1清掃部よりも後側に配置される第2清掃部とを備え、第1清掃部は、塗布器における基板対向面とこの基板対向面に連続する傾斜側面とに当接する第1清掃部材を有し、第2清掃部は、塗布器における基板対向面と傾斜側面とに当接する第2清掃部材を有しており、第1清掃部材は、第2清掃部材に比べて当接する相手面に沿って変形しにくい高剛性材料で形成されるように構成する。
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