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1. WO2020110544 - 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基盤及びその製造方法、ならびに、磁気ディスク及びその製造方法

公開番号 WO/2020/110544
公開日 04.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/041970
国際出願日 25.10.2019
IPC
G11B 5/73 2006.01
G物理学
11情報記憶
B記録担体と変換器との間の相対運動に基づいた情報記録
5記録担体の磁化または減磁による記録;磁気的手段による再生;そのための記録担体
62材料の選択によって特徴づけられる記録担体
73ベース層によって特徴づけられるもの
C22C 21/00 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
C合金
21アルミニウム基合金
C22F 1/04 2006.01
C化学;冶金
22冶金;鉄または非鉄合金;合金の処理または非鉄金属の処理
F非鉄金属または非鉄合金の物理的構造の変化
1非鉄金属または合金の熱処理によるか熱間または冷間加工による物理的構造の変化
04アルミニウムまたはアルミニウム基合金
C23C 18/18 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
18液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
18被覆される材料の前処理
C23C 18/31 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
18液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
31金属による被覆
C23C 18/36 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
18液状化合物または溶液のいずれかからなる被覆形成化合物の分解による化学的被覆であって表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの;接触メッキ
16還元または置換によるもの,例.無電解メッキ
31金属による被覆
32鉄,コバルトまたはニッケルのうちいずれか一種による被覆;これら金属の1つとりんまたはほう素の混合物で被覆するもの
34還元剤を用いるもの
36次亜りん酸塩を用いるもの
CPC
C22C 21/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
21Alloys based on aluminium
C22C 21/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
21Alloys based on aluminium
10with zinc as the next major constituent
C22C 21/12
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
21Alloys based on aluminium
12with copper as the next major constituent
C22F 1/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
C22F 1/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
FCHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
1Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
04of aluminium or alloys based thereon
C23C 18/18
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
18Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
16by reduction or substitution, e.g. electroless plating
18Pretreatment of the material to be coated
出願人
  • 株式会社UACJ UACJ CORPORATION [JP]/[JP]
  • 古河電気工業株式会社 FURUKAWA ELECTRIC CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 村田 拓哉 MURATA Takuya
  • 北脇 高太郎 KITAWAKI Kotaro
  • 米光 誠 YONEMITSU Makoto
  • 畠山 英之 HATAKEYAMA Hideyuki
  • 坂本 遼 SAKAMOTO Ryo
  • 太田 裕己 OTA Hiroki
代理人
  • 木村 満 KIMURA MITSURU
優先権情報
2018-22075026.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) ALUMINUM ALLOY SUBSTRATE FOR MAGNETIC DISCS AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, MAGNETIC DISC ALUMINUM ALLOY BASE AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME, AND MAGNETIC DISC AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) SUBSTRAT EN ALLIAGE D'ALUMINIUM POUR DISQUES MAGNÉTIQUES ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, BASE EN ALLIAGE D'ALUMINIUM À DISQUE MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION, ET DISQUE MAGNÉTIQUE ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(JA) 磁気ディスク用アルミニウム合金基板及びその製造方法、磁気ディスク用アルミニウム合金基盤及びその製造方法、ならびに、磁気ディスク及びその製造方法
要約
(EN)
This aluminum alloy substrate for magnetic discs is characterized by containing an aluminum alloy that contains 0.1-3.0 mass% of Fe, 0.005-1.000 mass% of Cu, and 0.005-1.000 mass% of Zn, the remaining portion being Al and unavoidable impurities, wherein, in the outer circumferential surface, pores having a longest diameter of not less than 10 µm exist in an amount of 200 pores/mm2. This magnetic disc aluminum alloy base and this magnetic disc use said aluminum alloy substrate for magnetic discs. This method is for manufacturing those.
(FR)
L'invention concerne un substrat en alliage d'aluminium pour disques magnétiques qui est caractérisé en ce qu'il contient un alliage d'aluminium qui contient de 0,1 à 3,0 % en masse de Fe, de 0,005 à 1,000 % en masse de Cu, et de 0,005 à 1,000 % en masse de Zn, la partie restante étant de l'Al et des impuretés inévitables, dans laquelle, dans la surface circonférentielle externe, des pores présentant un diamètre le plus long d'au moins 10 µm existent dans une quantité de 200 pores/mm2. Cette base en alliage d'aluminium à disque magnétique et ce disque magnétique utilisent ledit substrat en alliage d'aluminium pour disques magnétiques. L'invention concerne également un procédé de fabrication de ceux-ci.
(JA)
Fe:0.1~3.0mass%、Cu:0.005~1.000mass%、Zn:0.005~1.000mass%を含有し、残部Al及び不可避不純物からなるアルミニウム合金からなり、外周面において、最長径10μm以上の孔が200個/mm以下であることを特徴とする磁気ディスク用アルミニウム合金基板、これを用いた磁気ディスク用アルミニウム合金基盤及び磁気ディスク、ならびに、これらの製造方法。
他の公開
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