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1. WO2020110376 - 分解性樹脂成形体および分解性樹脂成形体の製造方法

公開番号 WO/2020/110376
公開日 04.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/031539
国際出願日 09.08.2019
IPC
B32B 27/30 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
27本質的に合成樹脂からなる積層体
30ビニル樹脂からなるもの;アクリル樹脂からなるもの
B32B 9/00 2006.01
B処理操作;運輸
32積層体
B積層体,すなわち平らなまたは平らでない形状,例.細胞状またはハニカム状,の層から組立てられた製品
9本質的にグループB32B11/00~B32B29/00に包含されない特殊な物質からなる積層体
C08J 7/06 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
J仕上げ;一般的混合方法;サブクラスC08B,C08C,C08F,C08GまたはC08Hに包含されない後処理(プラスチックの加工,例.成形B29)
7高分子物質から製造された成形体の処理または被覆
04被覆
06高分子物質を含まない組成物を使用するもの
C23C 16/42 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
22金属質材料以外の無機質材料の析出に特徴のあるもの
30化合物,混合物または固溶体の析出,例.ほう化物,炭化物,窒化物
42けい化物
C23C 16/44 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
16ガス状化合物の分解による化学的被覆であって,表面材料の反応生成物を被覆層中に残さないもの,すなわち化学蒸着(CVD)法
44被覆の方法に特徴のあるもの
CPC
B05D 3/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
3Pretreatment of surfaces to which liquids or other fluent materials are to be applied; After-treatment of applied coatings, e.g. intermediate treating of an applied coating preparatory to subsequent applications of liquids or other fluent materials
04by exposure to gases
B05D 7/04
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
DPROCESSES FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
7Processes, other than flocking, specially adapted for applying liquids or other fluent materials to particular surfaces or for applying particular liquids or other fluent materials
02to macromolecular substances, e.g. rubber
04to surfaces of films or sheets
B32B 27/30
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
27Layered products comprising ; a layer of; synthetic resin
30comprising vinyl ; (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
B32B 9/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
32LAYERED PRODUCTS
BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
9Layered products comprising a particular substance not covered by groups B32B11/00 - B32B29/00
C08J 7/06
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G
7Chemical treatment or coating of shaped articles made of macromolecular substances
04Coating
06with compositions not containing macromolecular substances
C23C 16/42
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
30Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
42Silicides
出願人
  • 株式会社明電舎 MEIDENSHA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 三浦 敏徳 MIURA, Toshinori
  • 花倉 満 KEKURA, Mitsuru
  • 亀田 直人 KAMEDA, Naoto
代理人
  • 小林 博通 KOBAYASHI, Hiromichi
  • 富岡 潔 TOMIOKA, Kiyoshi
  • 鵜澤 英久 UZAWA, Hidehisa
  • 太田 友幸 OTA, Tomoyuki
優先権情報
2018-22508230.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DEGRADABLE RESIN MOLDING AND PRODUCTION METHOD FOR DEGRADABLE RESIN MOLDING
(FR) MOULAGE DE RÉSINE DÉGRADABLE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DESTINÉ AU MOULAGE DE RÉSINE DÉGRADABLE
(JA) 分解性樹脂成形体および分解性樹脂成形体の製造方法
要約
(EN)
A degradable resin film (1) has a barrier layer (3) disposed on top of a water-soluble polymer layer (2). The water-soluble polymer layer (2) is formed of a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol or polyvinyl pyrrolidone. The barrier layer (3) is formed of a silicon oxide or a silicon oxynitride. The barrier layer (3) is formed on top of the water-soluble polymer layer (2) through CVD by supplying, to the water-soluble polymer layer (2), a material gas containing a precursor of a material that forms the barrier layer (3), at least 20 vol% of ozone gas, and an unsaturated hydrocarbon gas.
(FR)
L'invention concerne un film de résine dégradable (1) comportant une couche barrière (3) disposée sur une couche de polymère hydrosoluble (2). La couche de polymère hydrosoluble (2) est composée d'un polymère hydrosoluble tel que l'alcool polyvinylique ou la polyvinylpyrrolidone. La couche barrière (3) est composée d'un oxyde de silicium ou d'un oxynitrure de silicium. La couche barrière (3) est formée sur la couche de polymère hydrosoluble (2) au moyen d'un DCPV par fourniture, à la couche de polymère hydrosoluble (2), d'une substance gazeuse contenant un précurseur d'une substance qui compose la couche barrière (3), d'au moins 20 % en volume d'ozone gazeux, et d'un gaz hydrocarboné insaturé.
(JA)
水溶性高分子層(2)上にバリア層(3)を備えた分解性フィルム(1)である。水溶性高分子層(2)は、ポリビニルアルコールまたはポリビニルピロリドン等の水溶性高分子で形成する。バリア層(3)は、ケイ素酸化物またはケイ素酸窒化物で形成する。水溶性高分子層(2)に、バリア層(3)を形成する物質の前駆体を含む原料ガス、20体積%以上のオゾンガスおよび不飽和炭化水素ガスを供給して、CVDにより水溶性高分子層(2)上にバリア層(3)を形成する。
他の公開
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