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1. WO2020110276 - 荷電粒子線装置

公開番号 WO/2020/110276
公開日 04.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2018/044109
国際出願日 30.11.2018
IPC
H01J 37/20 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
20物体または材料を支持しまたは位置づける手段;支持体に関連した隔膜壁またはレンズを調節する手段
H01J 37/22 2006.01
H電気
01基本的電気素子
J電子管または放電ランプ
37放電にさらされる物体または材料を導入する設備を有する電子管,例,その試験や処理をするためのもの
02細部
22管と関連した光学または写真装置
H01L 21/66 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
CPC
H01J 37/20
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
20Means for supporting or positioning the objects or the material; Means for adjusting diaphragms or lenses associated with the support
H01J 37/22
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
22Optical or photographic arrangements associated with the tube
出願人
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 三羽 貴文 MIWA Takafumi
  • 菅野 誠一郎 KANNO Seiichiro
  • 宮 豪 MIYA Go
代理人
  • ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) CHARGED PARTICLE BEAM APPARATUS
(FR) APPAREIL À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
要約
(EN)
Provided is a charged particle beam apparatus with which it is possible to analyze foreign matter generated during transfer, observation, etc., of a sample. This charged particle beam apparatus is provided with: a sample stage on which a sample to be measured is placed; a charged particle beam source for irradiating the to-be-measured sample with a charged particle beam; and a detector for detecting charged particles emitted as a result of irradiation with the charged particle beam. The charged particle beam apparatus is characterized by being also provided with: a sample used for foreign matter observation, which, along with the to-be-measured sample, is held on the sample stage; and a foreign matter observation unit for observing foreign matter on the sample used for foreign matter observation.
(FR)
L'invention concerne un appareil à faisceau de particules chargées grâce auquel il est possible d'analyser de la matière étrangère générée durant le transfert, l'observation, etc. d'un échantillon. Cet appareil à faisceau de particules chargées comporte : un étage d'échantillons sur lequel est placé un échantillon à mesurer; une source de faisceau de particules chargées destinée à irradier l'échantillon à mesurer avec un faisceau de particules chargées; et un détecteur destiné à détecter des particules chargées transmises en résultat de l'irradiation avec le faisceau de particules chargées. L'appareil à faisceau de particules chargées est caractérisé en ce qu'il comporte également : un échantillon utilisé pour l'observation de matière étrangère, lequel, en même temps que l'échantillon à mesurer, est maintenu sur l'étage d'échantillons; et une unité d'observation de matière étrangère destinée à observer la matière étrangère sur l'échantillon utilisé pour l'observation de matière étrangère.
(JA)
試料を搬送するときや観察しているとき等に発生する異物を解析可能にする荷電粒子線装置を提供する。測定用試料が設置される試料ステージと、前記測定用試料に荷電粒子線を照射する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線の照射によって放出される荷電粒子を検出する検出器と、を備える荷電粒子線装置であって、前記測定用試料とともに前記試料ステージに保持される異物観察用試料と、前記異物観察用試料の上の異物を観察する異物観察部と、を備えることを特徴とする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報