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1. WO2020110262 - プラズマ生成ユニットおよびこれを用いた排ガス除害装置

公開番号 WO/2020/110262
公開日 04.06.2020
国際出願番号 PCT/JP2018/044023
国際出願日 29.11.2018
IPC
H05H 1/46 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
Hプラズマ技術;加速された荷電粒子のまたは中性子の発生;中性分子または原子ビームの発生または加速
1プラズマの生成;プラズマの取扱い
24プラズマの発生
46電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー
CPC
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
出願人
  • カンケンテクノ株式会社 KANKEN TECHNO CO., LTD. [JP]/[JP] (AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BE, BF, BG, BH, BJ, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CF, CG, CH, CI, CL, CM, CO, CR, CU, CY, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, FR, GA, GB, GD, GE, GH, GM, GN, GQ, GR, GT, GW, HN, HR, HU, ID, IE, IL, IN, IR, IS, IT, JO, JP, KE, KG, KH, KM, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, LY, MA, MC, MD, ME, MG, MK, ML, MN, MR, MT, MW, MX, MY, MZ, NA, NE, NG, NI, NL, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SI, SK, SL, SM, SN, ST, SV, SY, SZ, TD, TG, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW)
  • 北京康肯▲環▼保▲設▼▲備▼有限公司 BEIJING KANKEN ENVIRONMENTAL PROTECTION EQUIPMENT CO., LTD. [CN]/[CN] (CN)
発明者
  • 柳澤 道彦 YANAGISAWA Michihiko
  • 塚田 勉 TSUKADA Tsutomu
  • 今村 啓志 IMAMURA Hiroshi
代理人
  • 森 義明 MORI Yoshiaki
  • 市川 真樹 ICHIKAWA Masaki
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PLASMA GENERATION UNIT AND EXHAUST GAS DETOXIFYING DEVICE USING SAME
(FR) UNITÉ DE GÉNÉRATION DE PLASMA ET DISPOSITIF DE PURIFICATION DE GAZ D'ÉCHAPPEMENT L'UTILISANT
(JA) プラズマ生成ユニットおよびこれを用いた排ガス除害装置
要約
(EN)
The present invention provides a plasma generation unit (10) capable of maintaining ICP even at higher gas pressure and higher flow rate than in the prior art, and an exhaust gas detoxifying device (20) with high exhaust gas decomposition efficiency to which the plasma generation unit (10) is applied. More specifically, this plasma generation unit (10) includes a chamber (12) which has airtightness and through which gas flows, a high-frequency coil (14) which is disposed in the chamber (12), and generates inductively coupled plasma (18), and a high-frequency power source (16) which applies high-frequency voltage to the high-frequency coil (14).
(FR)
La présente invention concerne une unité de génération de plasma (10) capable de maintenir un plasma à couplage inductif même à une pression de gaz plus élevée et un débit plus élevé que dans l'état de la technique et un dispositif de détoxication de gaz d'échappement (20) ayant un rendement de décomposition de gaz d'échappement élevé auquel l'unité de génération de plasma (10) est appliquée. Plus spécifiquement, cette unité de génération de plasma (10) comprend une chambre (12) étanche à l'air et à travers laquelle un gaz s'écoule, une bobine haute fréquence (14) disposée dans la chambre (12) et générant un plasma à couplage inductif (18) et une source d'énergie haute fréquence (16) qui applique une tension haute fréquence à la bobine haute fréquence (14).
(JA)
本発明は、従来より高いガス圧力や速い流速でもICPを維持することができるプラズマ生成ユニット(10)と、かかるプラズマ生成ユニット(10)を適用した排ガス分解効率の高い排ガス除害装置(20)とを提供する。すなわち、本発明のプラズマ生成ユニット(10)は、気密性を有し、その内部をガスが通流するチャンバ(12)と、上記チャンバ(12)内に配設され、誘導結合プラズマ(18)を生成する高周波コイル(14)と、上記の高周波コイル(14)に高周波電圧を印加する高周波電源(16)とを含む。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報