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1. WO2020105521 - 保持装置および保持装置の製造方法

公開番号 WO/2020/105521
公開日 28.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/044466
国際出願日 13.11.2019
IPC
H05B 3/12 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
10材料の組成または性質または導体の配置に特徴のある加熱要素(組成それ自体は,関連するサブクラスを参照)
12導体材料の組成または性質に特徴のあるもの
H01L 21/683 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683支持または把持のためのもの
H05B 3/02 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
02細部
H05B 3/74 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
68特に料理板あるいは類似加熱板に適した加熱装置
74非金属板
CPC
H01L 21/683
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
H05B 3/02
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
02Details
H05B 3/10
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
10Heater elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
H05B 3/12
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
10Heater elements characterised by the composition or nature of the materials or by the arrangement of the conductor
12characterised by the composition or nature of the conductive material
H05B 3/74
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
68Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
74Non-metallic plates ; , e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
出願人
  • 日本特殊陶業株式会社 NGK SPARK PLUG CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 坂巻 龍之介 SAKAMAKI Ryunosuke
  • 高岡 勝哉 TAKAOKA Katsuya
  • 渡邊 洋史 WATANABE Hiroshi
代理人
  • 特許業務法人アルファ国際特許事務所 ALPHA INTERNATIONAL PATENT FIRM
優先権情報
2018-21611519.11.2018JP
2018-21611619.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) HOLDING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING HOLDING DEVICE
(FR) DISPOSITIF DE MAINTIEN ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF DE MAINTIEN
(JA) 保持装置および保持装置の製造方法
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to suppress a variation in the resistance value (amount of heat generation) of a heat-generating resistor, said variation resulting from an altered layer being formed on a surface of the heat-generating resistor. A holding device according to the present invention: is provided with a ceramic member formed of a ceramic sintered body a main constituent of which is an aluminum nitride, a metal heat-generating resistor disposed in the interior of the ceramic member, and an electroconductive power-supply member in contact with the heat-generating resistor; and holds an object of interest on a surface of the ceramic member. In this holding device, at least a portion of the surface of the heat-generating resistor, said surface excluding the surface in contact with the power-supply member, is covered with a coat layer formed of a nitride containing at least one of Al, Ti, Zr, V, Ta, and Nb.
(FR)
Le but de la présente invention est de supprimer une variation de la valeur de résistance (quantité de génération de chaleur) d'une résistance générant de la chaleur, ladite variation résultant d'une couche modifiée étant formée sur une surface de la résistance générant de la chaleur. Un dispositif de maintien selon la présente invention est pourvu d'un élément en céramique formé d'un corps fritté en céramique dont un constituant principal est un nitrure d'aluminium, d'une résistance métallique générant de la chaleur disposée à l'intérieur de l'élément en céramique et d'un élément d'alimentation électrique électroconducteur en contact avec la résistance générant de la chaleur ; et maintient un objet d'intérêt sur une surface de l'élément en céramique. Dans ce dispositif de maintien, au moins une partie de la surface de la résistance générant de la chaleur, ladite surface excluant la surface en contact avec l'élément d'alimentation électrique, est recouverte d'une couche de revêtement formée d'un nitrure contenant au moins un élément parmi Al, Ti, Zr, V, Ta et Nb.
(JA)
発熱抵抗体の表面に変質層が形成されることに起因する発熱抵抗体の抵抗値(発熱量)のバラツキを抑制する。 保持装置は、窒化アルミニウムを主成分とするセラミックス焼結体により形成されたセラミックス部材と、セラミックス部材の内部に配置された金属製の発熱抵抗体と、発熱抵抗体と接する導電性の給電部材とを備え、セラミックス部材の表面上に対象物を保持する装置である。本保持装置では、発熱抵抗体の表面の内、給電部材との接触面を除く表面の少なくとも一部が、AlとTiとZrとVとTaとNbとの少なくとも1つを含有する窒化物により形成されたコート層に覆われている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報