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1. WO2020105364 - 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物

公開番号 WO/2020/105364
公開日 28.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/041871
国際出願日 25.10.2019
IPC
C07D 221/14 2006.01
C化学;冶金
07有機化学
D複素環式化合物(高分子化合物C08)
221異項原子として1個の窒素原子のみを有する6員環の複素環式化合物であって,グループC07D211/00~C07D219/00までに属さないもの
02炭素環または炭素環系と縮合しているもの
04オルソ―またはペリ―縮合環系
063個の環からなる環系
14アザ―フェナレン,例.1,8―ナフタルイミド
C09K 3/00 2006.01
C化学;冶金
09染料;ペイント;つや出し剤;天然樹脂;接着剤;他に分類されない組成物;他に分類されない材料の応用
K他に分類されない応用される物質;他に分類されない物質の応用
3物質であって,他に分類されないもの
G03F 7/004 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
CPC
C07D 221/14
CCHEMISTRY; METALLURGY
07ORGANIC CHEMISTRY
DHETEROCYCLIC COMPOUNDS
221Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one nitrogen atom as the only ring hetero atom, not provided for by groups C07D211/00 - C07D219/00
02condensed with carbocyclic rings or ring systems
04Ortho- or peri-condensed ring systems
06Ring systems of three rings
14Aza-phenalenes, e.g. 1,8-naphthalimide
C09K 3/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
3Materials not provided for elsewhere
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
039Macromolecular compounds which are photodegradable, e.g. positive electron resists
出願人
  • サンアプロ株式会社 SAN-APRO LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 柴垣 智幸 SHIBAGAKI Tomoyuki
代理人
  • 林 博史 HAYASHI Hiroshi
優先権情報
2018-21901722.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) PHOTO-ACID GENERATOR AND RESIN COMPOSITION FOR PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) PHOTOGÉNÉRATEUR D'ACIDE ET COMPOSITION DE RÉSINE POUR PHOTOLITHOGRAPHIE
(JA) 光酸発生剤及びフォトリソグラフィー用樹脂組成物
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a non-ionic photo-acid generator which exhibits high photosensitivity to i-rays, excellent compatibility with, and solubility in, a resist solution, and excellent thermal stability. The present invention is a non-ionic photo-acid generator that is characterized by being represented by general formula (1). [In formula (1), X denotes an oxygen atom or a sulfur atom, R1 denotes a hydrogen atom or a C1-12 alkyl group that may have a carboxylic acid group, R2 denotes a hydrogen atom or a C1-12 alkyl group, and Rf denotes a C1-12 hydrocarbon group in which some or all of the hydrogen atoms are substituted with fluorine atoms.]
(FR)
Le but de la présente invention est de fournir un photogénérateur d'acide non ionique qui présente une photosensibilité élevée à des rayons i, une excellente compatibilité avec, et une solubilité dans, une solution de réserve, ainsi qu'une excellente stabilité thermique. Le photogénérateur d'acide non ionique selon la présente invention est caractérisé en ce qu'il est représenté par la formule générale (1). [Dans la formule (1), X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre, R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1-12 qui peut avoir un groupe d'acide carboxylique, R2 représente un atome d'hydrogène ou un groupe alkyle en C1-12, et Rf représente un groupe hydrocarboné en C1-12, une partie ou la totalité des atomes d'hydrogène étant substitués par des atomes de fluor.]
(JA)
本発明は、i線に高い光感度を有し、レジスト溶液への相溶性及び溶解性に優れ、また耐熱安定性に優れる非イオン系光酸発生剤を提供することを目的とする。本発明は、下記一般式(1)で表されることを特徴とする非イオン系光酸発生剤(A)である。 [式(1)中、Xは酸素原子、又は硫黄原子、R1は水素原子、又はカルボン酸基を有してもよい炭素数1~12のアルキル基、R2は水素原子、又は炭素数1~12のアルキル基、Rfは水素の一部又は全部がフッ素で置換されている炭素数1~12の炭化水素基を表す。]
他の公開
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