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1. WO2020105157 - 作業最適化システムおよび作業最適化装置

公開番号 WO/2020/105157
公開日 28.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2018/043088
国際出願日 21.11.2018
IPC
G06Q 50/04 2012.01
G物理学
06計算;計数
Q管理目的,商用目的,金融目的,経営目的,監督目的または予測目的に特に適合したデータ処理システムまたは方法;他に分類されない,管理目的,商用目的,金融目的,経営目的,監督目的または予測目的に特に適合したシステムまたは方法
50特定の業種に特に適合したシステムまたは方法,例.公益事業または観光業
04製造業
CPC
G06Q 50/04
GPHYSICS
06COMPUTING; CALCULATING; COUNTING
QDATA PROCESSING SYSTEMS OR METHODS, SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL, SUPERVISORY OR FORECASTING PURPOSES; SYSTEMS OR METHODS SPECIALLY ADAPTED FOR ADMINISTRATIVE, COMMERCIAL, FINANCIAL, MANAGERIAL, SUPERVISORY OR FORECASTING PURPOSES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
50Systems or methods specially adapted for specific business sectors, e.g. utilities or tourism
04Manufacturing
出願人
  • 株式会社日立製作所 HITACHI, LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 伊藤 誠也 ITOH, Masaya
  • 笹谷 聡 SASATANI, So
  • 粂 秀行 KUME, Hideyuki
  • 三木 亮祐 MIKI, Ryosuke
代理人
  • 特許業務法人サンネクスト国際特許事務所 SUNNEXT INTERNATIONAL PATENT OFFICE
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) WORK OPTIMIZATION SYSTEM AND WORK OPTIMIZATION DEVICE
(FR) SYSTÈME ET DISPOSITIF D'OPTIMISATION DE TÂCHE
(JA) 作業最適化システムおよび作業最適化装置
要約
(EN)
The present invention is provided with: a device control unit which controls a device on the basis of a device control pattern for the device and the parameters of the device control pattern; a worker measurement unit which, while the device control unit is controlling the device, measures the work being performed by a worker who works in cooperation with the device, from sensor information about the worker as acquired by a sensor; an evaluation unit which evaluates the work measured by the worker measurement unit, on the basis of a prescribed target value; and an action control pattern generation unit which determines whether or not the evaluation produced by the evaluation unit is higher than a threshold value, and if it is determined that the evaluation is higher, generates an action control pattern that includes the parameters of the device control pattern associated with the evaluation determined to be higher.
(FR)
La présente invention comprend : une unité de commande de dispositif qui commande un dispositif sur la base d'un modèle de commande de dispositif pour le dispositif et des paramètres du modèle de commande de dispositif; une unité de mesure de travailleur qui, tandis que l'unité de commande de dispositif commande le dispositif, mesure le travail effectué par un travailleur qui travaille en coopération avec le dispositif, à partir d'informations de capteur concernant le travailleur telles qu'acquises par un capteur; une unité d'évaluation qui évalue le travail mesuré par l'unité de mesure de travailleur, sur la base d'une valeur cible prescrite; et une unité de génération de modèle de commande d'action qui détermine si oui ou non l'évaluation produite par l'unité d'évaluation est supérieure à une valeur seuil, et s'il est déterminé que l'évaluation est plus élevée, génère un modèle de commande d'action qui comprend les paramètres du modèle de commande de dispositif associé à l'évaluation déterminée comme étant plus élevé.
(JA)
機器の機器制御パタンと機器制御パタンのパラメータとに基づいて機器の制御を行う機器制御部と、機器制御部により機器の制御が行われている際、センサにより取得された機器と協働して作業を行う作業者のセンサ情報から、作業者の作業を計測する作業者計測部と、作業者計測部で計測された作業を所定の目標値に基づいて評価する評価部と、評価部による評価がしきい値より高いか否かを判定し、高いと判定した場合、高いと判定した機器制御パタンのパラメータを含む行動制御パタンを生成する行動制御パタン生成部と、を設けるようにした。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報