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1. WO2020095599 - 酸化膜厚測定装置および該方法

公開番号 WO/2020/095599
公開日 14.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/039540
国際出願日 07.10.2019
IPC
G01B 11/06 2006.01
G物理学
01測定;試験
B長さ,厚さまたは同種の直線寸法の測定;角度の測定;面積の測定;表面または輪郭の不規則性の測定
11光学的手段の使用によって特徴づけられた測定装置
02長さ,幅または厚み測定用
06厚み測定用
C23C 2/06 2006.01
C化学;冶金
23金属質材料への被覆;金属質材料による材料への被覆;化学的表面処理;金属質材料の拡散処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法,または化学蒸着による被覆一般;金属質材料の防食または鉱皮の抑制一般
C金属質への被覆;金属材料による材料への被覆;表面への拡散,化学的変換または置換による,金属材料の表面処理;真空蒸着,スパッタリング,イオン注入法または化学蒸着による被覆一般
2形状に影響を及ぼすことのない溶融状態にある被覆材料の適用による溶融メッキまたは溶融浸漬法;そのための装置
04被覆材料に特徴があるもの
06亜鉛もしくはカドミウムまたはそれらを基とする合金
出願人
  • 株式会社神戸製鋼所 KABUSHIKI KAISHA KOBE SEIKO SHO (KOBE STEEL, LTD.) [JP]/[JP]
発明者
  • 乾 昌広 INUI, Masahiro
  • 高枩 弘行 TAKAMATSU, Hiroyuki
  • 中西 良太 NAKANISHI, Ryota
代理人
  • 小谷 悦司 KOTANI, Etsuji
  • 小谷 昌崇 KOTANI, Masataka
  • 櫻井 智 SAKURAI, Satoshi
優先権情報
2018-21133309.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DEVICE AND METHOD FOR MEASURING OXIDE FILM THICKNESS
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ POUR MESURER L'ÉPAISSEUR D'UN FILM D'OXYDE
(JA) 酸化膜厚測定装置および該方法
要約
(EN)
In this device for measuring oxide film thickness, for each of a plurality of sub-film-thickness measurement ranges obtained by dividing a film thickness measurement range, film thickness conversion information is stored which indicates a correspondence between film thickness and synchrotron radiation intensity whereby the ratio of the change in synchrotron radiation intensity with respect to a change in film thickness is within a set range in the applicable sub-film-thickness measurement range, the synchrotron radiation intensity of a steel plate surface is measured at a plurality of different measurement wavelengths by each of a plurality of synchrotron radiation intensity measurement units, and a film thickness corresponding to the measured synchrotron radiation intensity and a ratio at said film thickness are determined, for each synchrotron radiation intensity of the steel plate surface respectively measured by the plurality of synchrotron radiation intensity measurement units, using the film thickness conversion information corresponding to the applicable synchrotron radiation intensity unit, and when the determined ratio is within a set range associated with the film thickness conversion information, the determined film thickness is extracted as a candidate value for the actual film thickness.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de mesure de l'épaisseur d'un film d'oxyde dans lequel, pour chacune d'une pluralité de plages de mesure de sous-épaisseur du film obtenues par division d'une plage de mesure d'épaisseur du film, des informations de conversion d'épaisseur du film sont stockées qui indiquent une correspondance entre l'épaisseur du film et l'intensité du rayonnement synchrotron, le rapport du changement d'intensité du rayonnement synchrotron à un changement d'épaisseur du film se situant dans une plage définie dans la plage de mesure de sous-films applicable. L'intensité de rayonnement synchrotron d'une surface de plaque d'acier est mesurée à une pluralité de longueurs d'onde de mesure différentes par chacune d'une pluralité d'unités de mesure d'intensité de rayonnement synchrotron; et une épaisseur du film correspondant à l'intensité de rayonnement synchrotron mesurée et un rapport à ladite épaisseur du film sont déterminés, pour chaque intensité de rayonnement synchrotron de la surface de plaque d'acier respectivement mesurée par la pluralité d'unités de mesure d'intensité de rayonnement synchrotron, à l'aide des informations de conversion d'épaisseur du film correspondant à l'unité d'intensité de rayonnement synchrotron applicable. Et lorsque le rapport déterminé se situe dans une plage définie associée aux informations de conversion d'épaisseur du film, l'épaisseur du film déterminée est extraite en tant que valeur candidate pour l'épaisseur du film réelle.
(JA)
本発明の酸化膜厚測定装置は、膜厚測定範囲を区分けした複数のサブ膜厚測定範囲それぞれについて、このサブ膜厚測定範囲内では膜厚の変化に対する放射光輝度の変化の割合が設定範囲内となる、膜厚と放射光輝度との対応関係の膜厚変換情報を記憶し、複数の放射光輝度測定部それぞれで鋼板表面の放射光輝度を異なる複数の測定波長で測定し、複数の放射光輝度測定部それぞれで測定された鋼板表面の各放射光輝度それぞれについて、当該放射光輝度測定部に対応する膜厚変換情報を用いて、その測定された放射光輝度に対応する膜厚とこの膜厚での割合とを求め、この求めた割合が当該膜厚変換情報に対応付けられた設定範囲内である場合に、この求めた膜厚を実際の膜厚の候補値として抽出する。
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