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1. WO2020095594 - 検査装置

公開番号 WO/2020/095594
公開日 14.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/039433
国際出願日 07.10.2019
IPC
H01L 21/66 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
66製造または処理中の試験または測定
G01N 21/956 2006.01
G物理学
01測定;試験
N材料の化学的または物理的性質の決定による材料の調査または分析
21光学的手段,すなわち,赤外線,可視光線または紫外線を使用することによる材料の調査または分析
84特殊な応用に特に適合したシステム
88きず,欠陥,または汚れの存在の調査
95調査対象物の材質や形に特徴付けられるもの
956物体表面のパターンの検査
出願人
  • 株式会社日立ハイテク HITACHI HIGH-TECH CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 佐藤 良広 SATOU Yoshihiro
  • 増田 俊夫 MASUDA Toshio
  • 松野 均 MATSUNO Hitoshi
  • 芝山 慧 SHIBAYAMA Kei
  • 吉村 修 YOSHIMURA Osamu
  • 飯島 雄一郎 IIJIMA Yuichirou
代理人
  • 特許業務法人平木国際特許事務所 HIRAKI & ASSOCIATES
優先権情報
2018-20947407.11.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) EXAMINATION DEVICE
(FR) DISPOSITIF D'EXAMEN
(JA) 検査装置
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to allow a clean airflow around a substrate to reliably move downward of the substrate in an examination device in which clean air is supplied to an inspection chamber. This examination device is provided with a rectifying plate (see FIG. 4A) which covers a part of the upper surface of a stage for mounting a substrate, and is disposed between a gas supply unit and the stage to block an airflow toward the substrate.
(FR)
La présente invention vise à permettre à un flux d'air propre autour d'un substrat de se déplacer de manière fiable vers le bas du substrat dans un dispositif d'examen dans lequel de l'air propre est alimenté dans une chambre d'inspection. Ce dispositif d'examen est pourvu d'une plaque de redressement (voir FIG. 4A) qui recouvre une partie de la surface supérieure d'un étage servant au montage d'un substrat, et est disposée entre une unité d'alimentation en gaz et l'étage de manière à bloquer un flux d'air en direction du substrat.
(JA)
本発明は、清浄な空気を検査室に対して供給する検査装置において、基板周辺の清浄な空気流を基板の下方へ確実に向かわせることを目的とする。本発明に係る検査装置は、基板を載置するステージの上面の一部を覆うとともに、気体供給部と前記ステージとの間に配置され前記基板へ向かう気流を遮断する、整流板を備える(図4A参照)。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報