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1. WO2020090746 - 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、パターン硬化膜およびパターン硬化膜の作製方法

公開番号 WO/2020/090746
公開日 07.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/042183
国際出願日 28.10.2019
IPC
C08L 83/08 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
L高分子化合物の組成物
83主鎖のみにいおう,窒素,酸素または炭素を含みまたは含まずにけい素を含む結合を形成する反応によって得られる高分子化合物の組成物;そのような重合体の誘導体の組成物
04ポリシロキサン
08炭素,水素および酸素以外の原子を含む有機基に結合したけい素を含むもの
C08F 299/08 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
299非高分子量単量体の不存在下に,炭素-炭素不飽和結合のみが関与する重合体相互の反応によって得られる高分子化合物
02不飽和重縮合物からのもの
08ポリシロキサン
C08G 59/30 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
591分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する重縮合物;エポキシ重縮合物と単官能性低分子量化合物との反応によって得られる高分子化合物;エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含有する化合物を重合することにより得られる高分子化合物
18エポキシ基と反応する硬化剤または触媒を用いて1分子中に1個より多くのエポキシ基を含む化合物を重合することにより得られる高分子化合物
20用いられたエポキシ化合物に特徴のあるもの
22ジエポキシ化合物
30炭素,水素,酸素および窒素以外の原子を含むもの
C08G 77/24 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
G炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応以外の反応によって得られる高分子化合物
77高分子の主鎖にいおう,窒素,酸素または炭素を有しまたは有せずにけい素を含む連結基を形成する反応により得られる高分子化合物
04ポリシロキサン
22炭素,水素および酸素以外の原子を含む有機基に結合したけい素を含むもの
24ハロゲン含有基
G03F 7/023 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
022キノンジアジド
023高分子キノンジアジド;高分子添加剤,例.結合剤
G03F 7/075 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
004感光材料
075シリコン含有化合物
出願人
  • セントラル硝子株式会社 CENTRAL GLASS COMPANY, LIMITED [JP]/[JP]
発明者
  • 杉田 豊 SUGITA Yutaka
  • 片村 友大 KATAMURA Tomohiro
  • 中辻 惇也 NAKATSUJI Junya
  • 山中 一広 YAMANAKA Kazuhiro
  • 増渕 毅 MASUBUCHI Takashi
代理人
  • 速水 進治 HAYAMI Shinji
優先権情報
2018-20433230.10.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED FILM, PRODUCTION METHOD FOR CURED FILM, PATTERNED CURED FILM, AND PRODUCTION METHOD FOR PATTERNED CURED FILM
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE, COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE, FILM DURCI, PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI, FILM DURCI À MOTIFS, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE FILM DURCI À MOTIFS
(JA) 樹脂組成物、感光性樹脂組成物、硬化膜、硬化膜の製造方法、パターン硬化膜およびパターン硬化膜の作製方法
要約
(EN)
A polysiloxane composition which comprises a solvent and a polysiloxane compound comprising constituent units represented by formula (1) and constituent units represented by formula (2) and/or formula (3). Formula (1): [(Rx)bR1mSiOn/2] Formula (2): [(Ry)cR2pSiOq/2] Formula (3): [SiO4/2] In the formulae, Rx is a monovalent group represented by formula (1a) (X represents a hydrogen atom or an acid-unstable group, a is an integer of 1-5, and the broken line indicates a linking bond) and Ry is a C1-30 monovalent organic group including any of epoxy, oxetane, acryloyl, and methacryloyl groups.
(FR)
L'invention concerne une composition de polysiloxane qui comprend un solvant et un composé polysiloxane comprenant des unités constitutives représentées par la formule (1) et des unités constitutives représentées par la formule (2) et/ou la formule (3). Formule (1) : [(Rx)bR1 mSiOn/2] Formule (2) : [(Ry)cR2 pSiOq/2] Formule (3) : [SiO 4/2] Dans les formules, Rx est un groupe monovalent représenté par la formule (1a) (X représente un atome d'hydrogène ou un groupe instable en milieu acide, a est un nombre entier de 1 à 5, et la ligne brisée indique une liaison fonctionnelle) et Ry est un groupe organique monovalent en C1-30 comprenant l'un quelconque des groupes époxy, oxétane, acryloyle et méthacryloyle.
(JA)
式(1)で表される構成単位と、式(2)および式(3)の少なくとも一方の構成単位と、を含むポリシロキサン化合物と、溶剤と、を含むポリシロキサン組成物。 [(RSiOn/2] (1) [(RSiOq/2] (2) [SiO4/2] (3) ここで、Rは、式(1a)で表される一価の基(Xは水素原子または酸不安定性基、aは1~5の整数、破線は結合手を表す)であり、Rは、エポキシ基、オキセタン基、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれかを含む炭素数1~30の一価の有機基である。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報