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1. WO2020090423 - 太陽電池の製造方法、太陽電池、および太陽電池モジュール

公開番号 WO/2020/090423
公開日 07.05.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/040249
国際出願日 11.10.2019
IPC
H01L 31/0224 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
02細部
0224電極
H01L 21/28 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
28H01L21/20~H01L21/268に分類されない方法または装置を用いる半導体本体上への電極の製造
H01L 21/288 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
28H01L21/20~H01L21/268に分類されない方法または装置を用いる半導体本体上への電極の製造
283電極用の導電または絶縁材料の析出
288液体からの析出,例.電解液からの析出
H01L 29/41 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
29整流,増幅,発振またはスイッチングに特に適用される半導体装置であり,少なくとも1つの電位障壁または表面障壁を有するもの;少なくとも1つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合空乏層またはキャリア集中層,を有するコンデンサーまたは抵抗器;半導体本体または電極の細部
40電極
41その形状,相対的大きさまたは配置に特徴のあるもの
H01L 31/0747 2012.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
31赤外線,可視光,短波長の電磁波,または粒子線輻射に感応する半導体装置で,これらの輻射線エネルギーを電気的エネルギーに変換するかこれらの輻射線によって電気的エネルギーを制御かのどちらかに特に適用されるもの;それらの装置またはその部品の製造または処理に特に適用される方法または装置;それらの細部
04光起電変換装置として使用されるもの
06少なくとも1つの電位障壁または表面障壁に特徴のあるもの
072電位障壁がPNヘテロ接合型のみからなるもの
0745AIVBIVヘテロ接合からなる,例.Si/Ge,SiGe/SiまたはSi/SiC太陽電池
0747結晶材料とアモルファス材料のヘテロ接合からなる,例.薄い真性層を備えたヘテロ接合またはHIT(登録商標)の太陽電池とのヘテロ結合
出願人
  • 株式会社カネカ KANEKA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 兼松 正典 KANEMATSU Masanori
  • 足立 大輔 ADACHI Daisuke
代理人
  • 新山 雄一 NIIYAMA Yuichi
  • 加藤 竜太 KATO Ryuta
優先権情報
2018-20500431.10.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SOLAR CELL MANUFACTURING METHOD, SOLAR CELL, AND SOLAR CELL MODULE
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE CELLULE SOLAIRE, CELLULE SOLAIRE ET MODULE DE CELLULES SOLAIRES
(JA) 太陽電池の製造方法、太陽電池、および太陽電池モジュール
要約
(EN)
Provided is a solar cell manufacturing method that allows simple formation of a transparent electrode layer. This solar cell manufacturing method includes, in the following order, a step for forming conductive type semiconductor layers 25, 35 on the rear surface side of a substrate 11, a step for forming a transparent conductive film on the conductive type semiconductor layers 25, 35, a step for forming metal electrode layers 29, 39 on the conductive type semiconductor layers 25, 35, respectively, via the transparent conductive film, and a step for forming transparent electrode layers 28, 38 that are separated from each other after the transparent conductive film is patterned. In the metal electrode layer formation step, a printing material containing a metal material, a resin material, and a solvent is printed and then is cured, and the metal electrode layers 29, 39 are formed, and resin films 40 each having therein a resin material unevenly distributed are formed at the peripheries of the metal electrode layers 29, 39. In the transparent electrode layer formation step, the transparent conductive film is patterned with the metal electrode layer 29 and the resin film 40 at the periphery and the metal electrode layer 39 and the resin film 40 at the periphery serving as masks.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication de cellule solaire qui permet la formation simple d'une couche d'électrode transparente. Ce procédé de fabrication de cellule solaire comprend, dans l'ordre suivant, une étape de formation de couches semi-conductrices de type conducteur 25, 35 sur le côté de surface arrière d'un substrat 11, une étape de formation d'un film conducteur transparent sur les couches semi-conductrices de type conducteur 25, 35, une étape de formation de couches d'électrode métalliques 29, 39 sur les couches semi-conductrices de type conducteur 25, 35, respectivement, par l'intermédiaire du film conducteur transparent, et une étape consistant à former des couches d'électrode transparentes qui sont séparées les unes des autres après la formation en motif du film conducteur transparent. Dans l'étape de formation de couche d'électrode métallique, un matériau d'impression contenant un matériau métallique, un matériau de résine et un solvant est imprimé, puis durci, et les couches d'électrode métallique 29, 39 sont formées, et des films de résine 40 contenant chacun un matériau de résine distribué de manière irrégulière sont formés aux périphéries des couches d'électrode métalliques 29, 39. Dans l'étape de formation de couche d'électrode transparente, le film conducteur transparent est formé en motif avec la couche d'électrode métallique 29 et le film de résine 40 sur la périphérie et la couche d'électrode métallique 39 et le film de résine 40 à la périphérie servant de masques.
(JA)
透明電極層の形成の簡略化が可能な太陽電池の製造方法を提供する。太陽電池の製造方法は、基板11の裏面側に導電型半導体層25,35を形成する工程と、導電型半導体層25,35上に透明導電膜を形成する工程と、透明導電膜を介して導電型半導体層25,35上にそれぞれ金属電極層29,39を形成する工程と、透明導電膜をパターニングして互いに分離された透明電極層28,38を形成する工程とをこの順で含む。金属電極層形成工程では、金属材料、樹脂材料および溶媒を含む印刷材料を印刷して硬化させ、金属電極層29,39を形成し、金属電極層29,39の周縁に樹脂材料が偏在してなる樹脂膜40を形成し、透明電極層形成工程では、金属電極層29およびその周縁の樹脂膜40、および、金属電極層39およびその周縁の樹脂膜40をマスクとして、透明導電膜をパターニングする。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報