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1. WO2020085037 - 描画方法および描画装置

公開番号 WO/2020/085037
公開日 30.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/039234
国際出願日 04.10.2019
IPC
G03F 7/207 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
207焦点調節手段,例.自動焦点調節手段
G03F 7/20 2006.01
G物理学
03写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ
Fフォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置
7フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化又はパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置
20露光;そのための装置
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
出願人
  • 株式会社SCREENホールディングス SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 岡本 晃澄 OKAMOTO, Akisumi
代理人
  • 振角 正一 FURIKADO, Shoichi
  • 大西 一正 OHNISHI, Kazumasa
優先権情報
2018-19842922.10.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) DRAWING METHOD AND DRAWING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE DESSIN ET DISPOSITIF DE DESSIN
(JA) 描画方法および描画装置
要約
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a technique of irradiating a substrate with a convergent light beam to perform drawing such that the light beam suitably follows a substrate surface with height differences. The present invention provides a drawing method in which a stage whereon a substrate having disposed on a surface thereof a relatively protruding region and a retreating region recessed from the protruding region is horizontally placed and a drawing head that irradiates the substrate surface with a convergent light beam to perform drawing are moved relative to each other and the incident position of the light beam on the substrate surface is scanned to perform drawing on the substrate, said method including: a step in which the position on the substrate surface whereon the light beam is incident is optically detected; and a step in which the convergence position of the light beam is adjusted in the optical axis direction on the basis of the detection results of the surface position, thereby causing the light beam to follow the surface of the substrate. The adjustment of the convergence position is limited to a following range that is defined on the basis of the detection results of the substrate surface position at each of the protruding regions and the retreating regions.
(FR)
L'objectif de la présente invention est de fournir une technique d'irradiation d'un substrat avec un faisceau de lumière convergente pour effectuer un dessin de telle sorte que le faisceau de lumière suive de façon appropriée une surface de substrat à hauteur variable. La présente invention concerne un procédé de dessin dans lequel une platine sur laquelle se trouve un substrat placé de façon horizontale et sur une surface duquel sont disposées une région relativement saillante et une région de retrait en retrait de la région en saillie ainsi qu'une tête de dessin qui irradie la surface de substrat avec un faisceau de lumière convergent de façon à effectuer un dessin sont déplacées l'une par rapport à l'autre, et la position incidente du faisceau de lumière sur la surface de substrat est balayée pour effectuer un dessin sur le substrat, ledit procédé comprenant : une étape dans laquelle la position de la surface du substrat sur laquelle le faisceau lumineux est incident est optiquement détectée ; et une étape dans laquelle la position de convergence du faisceau lumineux est ajustée dans la direction de l'axe optique sur la base des résultats de détection de la position de surface, amenant ainsi le faisceau lumineux à suivre la surface du substrat. L'ajustement de la position de convergence est limité à une plage suivante qui est définie sur la base des résultats de détection de la position de surface de substrat au niveau de chacune des régions saillantes et des régions en retrait.
(JA)
基板に収束光ビームを照射して描画する技術において、表面に高低差のある基板の表面に対し光ビームを適切に追従させる。本発明は、相対的に突出した突出領域と突出領域よりも後退した後退領域とが表面に配置された基板を水平姿勢に載置したステージと、基板の表面に収束光ビームを照射して描画する描画ヘッドとを相対的に移動させて基板表面で光ビームの入射位置を走査して基板に描画する描画方法において、光ビームが入射する基板の表面位置を光学的に検出する工程と、表面位置の検出結果に基づき、光ビームの収束位置を光軸方向に調整して基板の表面に追従させる工程とを備える。収束位置の調整は、突出領域および後退領域それぞれにおける基板の表面位置の検出結果に基づき設定された追従範囲に規制される。
他の公開
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