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1. WO2020080291 - トレンチキャパシタおよびトレンチキャパシタの製造方法

公開番号 WO/2020/080291
公開日 23.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/040236
国際出願日 11.10.2019
IPC
H01G 4/33 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Gコンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
4固定コンデンサ;その製造方法
33薄膜または厚膜コンデンサ
H01G 4/30 2006.01
H電気
01基本的電気素子
Gコンデンサ;電解型のコンデンサ,整流器,検波器,開閉装置,感光装置また感温装置
4固定コンデンサ;その製造方法
30積層型コンデンサ
出願人
  • 太陽誘電株式会社 TAIYO YUDEN CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 青柳 善雄 AOYAGI Yoshio
代理人
  • 村越 智史 MURAKOSHI Satoshi
優先権情報
2018-19573817.10.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) TRENCH CAPACITOR AND METHOD FOR PRODUCING TRENCH CAPACITOR
(FR) CONDENSATEUR À TRANCHÉE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN CONDENSATEUR À TRANCHÉE
(JA) トレンチキャパシタおよびトレンチキャパシタの製造方法
要約
(EN)
A trench capacitor according to one embodiment of the present invention is provided with: a conductive base material which comprises one or more first metal layers and one or more second metal layers that are alternately stacked with the one or more first metal layers in a stacking direction, and which is provided with one or more trenches that extend from the upper surface in the stacking direction; a dielectric layer which covers the upper surface and wall surfaces of the conductive base material, said wall surfaces defining the one or more trenches; and an electrode layer which covers the dielectric layer. With respect to this embodiment, each of the one or more trenches is provided with one or more recesses that are dented in a direction that is perpendicular to the stacking direction.
(FR)
La présente invention concerne, selon un mode de réalisation, un condensateur à tranchée comprenant : un matériau de base conducteur qui comprend une ou plusieurs premières couches métalliques et une ou plusieurs secondes couches métalliques qui sont empilées en alternance avec la ou les premières couches métalliques dans une direction d'empilement, et qui comporte une ou plusieurs tranchées qui s'étendent à partir de la surface supérieure dans la direction d'empilement ; une couche diélectrique qui recouvre la surface supérieure et les surfaces de paroi du matériau de base conducteur, lesdites surfaces de paroi définissant la ou les tranchées ; et une couche d'électrode qui recouvre la couche diélectrique. Par rapport à ce mode de réalisation, chaque tranchée desdites tranchées est pourvue d'un ou plusieurs évidements qui sont dentés dans une direction qui est perpendiculaire à la direction d'empilement.
(JA)
一実施形態によるトレンチキャパシタは、一又は複数の第1金属層と、前記一又は複数の第1金属層と積層方向に交互に積層された一又は複数の第2金属層と、を有し、上面から積層方向に延びる一又は複数のトレンチが設けられた導電性基材と、前記導電性基材の前記上面及び前記一又は複数のトレンチを画定する壁面を被覆する誘電体層と、前記誘電体層を被覆する電極層と、を備える。当該実施形態において、前記一又は複数のトレンチの各々には、前記積層方向と垂直な方向に凹む一又は複数の凹部が設けられている。
他の公開
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