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1. WO2020080081 - シルセスキオキサン誘導体組成物及びその利用

公開番号 WO/2020/080081
公開日 23.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/038571
国際出願日 30.09.2019
IPC
C08F 30/08 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
30ただ1つの炭素―炭素二重結合を含有する1個以上の不飽和脂肪族基をもち,りん,セレン,テルルまたは金属を含有する化合物の単独重合体または共重合体(金属塩,例.フェノラートまたはアルコラート,は母体化合物を参照)
04金属を含有する単量体
08けい素
C08F 2/44 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
F炭素-炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物
2重合方法
44配合成分,例.可塑剤,染料,充填剤,の存在下における重合
C08K 3/22 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
3無機物質の添加剤としての使用
18酸素含有化合物,例.金属カルボニル
20酸化物;水酸化物
22金属の
C08K 3/34 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
3無機物質の添加剤としての使用
34けい素含有化合物
C08K 3/38 2006.01
C化学;冶金
08有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物
K無機または非高分子有機物質の添加剤としての使用(ペイント,インキ,ワニス,染料,艶出剤,接着剤C09)
3無機物質の添加剤としての使用
38ほう素含有化合物
出願人
  • 東亞合成株式会社 TOAGOSEI CO., LTD. [JP]/[JP]
発明者
  • 岩瀬 賢明 IWASE Yoshiaki
  • 藤田 武士 FUJITA Takeshi
代理人
  • 特許業務法人 快友国際特許事務所 KAI-U PATENT LAW FIRM
優先権情報
2018-19695118.10.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) SILSESQUIOXANE DERIVATIVE COMPOSITION AND USE OF SAME
(FR) COMPOSITION DE DÉRIVÉ DE SILSESQUIOXANE ET SON UTILISATION
(JA) シルセスキオキサン誘導体組成物及びその利用
要約
(EN)
In order to improve the heat resistance of a silsesquioxane derivative, the present invention provides a silsesquioxane derivative composition which contains a silsesquioxane derivative and a layered compound.
(FR)
Afin d'améliorer la résistance à la chaleur d'un dérivé de silsesquioxane, la présente invention concerne une composition de dérivé de silsesquioxane qui contient un dérivé de silsesquioxane et un composé en couches.
(JA)
シルセスキオキサン誘導体の耐熱性を向上させるために、シルセスキオキサン誘導体と、層状化合物と、を含有する、シルセスキオキサン誘導体組成物を提供する。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報