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1. WO2020079795 - 石英ガラス製ダミーウエハ

公開番号 WO/2020/079795
公開日 23.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2018/038785
国際出願日 18.10.2018
IPC
H01L 21/31 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
02半導体装置またはその部品の製造または処理
04少なくとも一つの電位障壁または表面障壁,例.PN接合,空乏層,キャリア集中層,を有する装置
18不純物,例.ドーピング材料,を含むまたは含まない周期表第IV族の元素またはA↓I↓I↓IB↓V化合物から成る半導体本体を有する装置
30H01L21/20~H01L21/26に分類されない方法または装置を用いる半導体本体の処理
31半導体本体上への絶縁層の形成,例.マスキング用またはフォトリソグラフィック技術の使用によるもの;これらの層の後処理;これらの層のための材料の選択
出願人
  • 東ソー・クォーツ株式会社 TOSOH QUARTZ CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 浅野 睦己 ASANO Mutsumi
  • 国吉 実 KUNIYOSHI Minoru
  • 谷口 隆 TANIGUCHI Takashi
  • 本多 啓志 HONTA Keishi
代理人
  • 石井 良和 ISHII Yoshikazu
優先権情報
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) QUARTZ GLASS DUMMY WAFER
(FR) TRANCHE FACTICE EN VERRE DE QUARTZ
(JA) 石英ガラス製ダミーウエハ
要約
(EN)
[Problem] The present invention provides a quartz glass dummy wafer with a clean textured surface by facilitating the cleaning and removal of metal impurities from the textured surface of the dummy wafer which is used for manufacturing semiconductor elements. [Solution] Side surfaces of a texture formed on a surface of a quartz glass are made to be inclined surfaces and the inclined surfaces of the texture are made to be visible from the top surface side so that the effects of physically washing the wafer by scrubbing with a brush or by the flow of water from a shower, etc., is increased and the amount of metal impurities are reduced. Furthermore, the surface roughness Ra when forming the texture is made to be 1.6 μm or less, so that washing efficiency is increased and residue of metal impurities can be prevented. Thus, by a process that combines photolithography and sandblasting, a quartz glass dummy wafer can be manufactured for which the side surfaces of the texture can be formed with desired inclinations and the texture can be formed to have a desired surface roughness.
(FR)
La présente invention vise à proposer une tranche factice en verre de quartz ayant une surface texturée propre en facilitant le nettoyage et l'élimination d'impuretés métalliques à partir de la surface texturée de la tranche factice qui est utilisée pour la fabrication d'éléments semi-conducteurs. À cet effet, selon la présente invention, les surfaces latérales d'une texture formée sur une surface d'un verre de quartz sont conçues pour être des surfaces inclinées et les surfaces inclinées de la texture sont conçues pour être visibles depuis le côté surface supérieure de telle sorte que les effets de lavage physique de la tranche par frottage avec une brosse ou par l'écoulement d'eau à partir d'une douche, etc., sont accrus et la quantité d'impuretés métalliques est réduite. En outre, la rugosité de surface Ra lors de la formation de la texture est conçue pour être égale ou inférieure à 1,6 µm, de telle sorte que l'efficacité de lavage est accrue et le résidu d'impuretés métalliques peut être empêché. Ainsi, par un processus qui combine la photolithographie et le sablage, une tranche factice en verre de quartz peut être fabriquée, tranche factice en verre de quartz pour laquelle les surfaces latérales de la texture peuvent être formées avec des inclinaisons souhaitées et la texture peut être formée de façon à avoir une rugosité de surface souhaitée.
(JA)
【課題】表面に凹凸を形成した半導体素子製造用ダミーウエハの凹凸面の金属不純物の洗浄除去を容易にし、清浄な凹凸面の石英ガラスダミーウエハを提供する。 【解決手段】石英ガラスの表面に形成した凹凸の側面を傾斜面とし、上部表面側から凹凸の斜面を目視可能とし、ブラシによるスクラブ、シャワーによる水流等の物理的洗浄効果を高めて金属不純物を少なくする。また、凹凸形成時の加工面粗さRaを1.6μm以下にすることにより洗浄効率を高めて金属不純物の残留を防止可能とした。フォトリソグラフィとサンドブラストを組合せた加工によって所望の凹凸側面の傾斜、および所望の加工面粗さの凹凸を形成する石英ガラス製ダミーウエハを製造できるようにした。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報