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1. WO2020067424 - サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ

公開番号 WO/2020/067424
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/038153
国際出願日 27.09.2019
IPC
B41J 2/335 2006.01
B処理操作;運輸
41印刷;線画機;タイプライター;スタンプ
Jタイプライタ;選択的プリンティング機構,すなわち版以外の手段でプリンティングする機構;誤植の修正
2設計されるプリンティングまたはマーキング方法に特徴があるタイプライタまたは選択的プリンティング機構
315感熱プリンティング材料または印刷転写材料へ熱を選択的に適用することに特徴があるもの
32サーマルヘッドを用いるもの
335サーマルヘッドの構造
CPC
B41J 2/335
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, ; e.g. INK-JET PRINTERS, THERMAL PRINTERS; , i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
2Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
315characterised by selective application of heat to a heat sensitive printing or impression-transfer material
32using thermal heads
335Structure of thermal heads
出願人
  • 京セラ株式会社 KYOCERA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 阿部 寛成 ABE,Hironari
優先権情報
2018-18226927.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) THERMAL HEAD AND THERMAL PRINTER
(FR) TÊTE THERMIQUE ET IMPRIMANTE THERMIQUE
(JA) サーマルヘッドおよびサーマルプリンタ
要約
(EN)
This thermal head X1 is equipped with a substrate 7, a heat-generating portion 9, electrodes 17, 19 and a protective layer 25. The heat-generating portion 9 is positioned on the substrate 7. The electrodes 17, 19 are positioned on the substrate 7 and are connected to the heat-generating portion 9. The protective layer 25 covers part of the electrodes 17, 19 and the heat-generating portion 9. The kurtosis of the protective layer 25 is less than 3. In addition, this thermal head X1 is equipped with a substrate 7, a heat-generating portion 9, electrodes 17, 19, and a protective layer 25. The heat-generating portion 9 is positioned on the substrate 7. The electrodes 17, 19 are positioned on the substrate 7 and are connected to the heat-generating portion 9. The protective layer 25 covers part of the electrodes 17, 19 and the heat-generating portion 9. The skewness Rsk of the protective layer 25 is less than 0.
(FR)
La présente invention concerne une tête thermique (X1) pourvue d'un substrat (7), d'une partie de génération de chaleur (9), d'électrodes (17, 19) et d'une couche de protection (25). La partie de génération de chaleur (9) est positionnée sur le substrat (7). Les électrodes (17, 19) sont positionnées sur le substrat (7) et sont reliées à la partie de génération de chaleur (9). La couche de protection (25) recouvre une partie des électrodes (17, 19) et la partie de génération de chaleur (9). L'aplatissement de la couche de protection (25) est inférieur à (3). De plus, cette tête thermique (X1) est équipée d'un substrat (7), d'une partie de génération de chaleur (9), d'électrodes (17, 19) et d'une couche de protection (25). La partie de génération de chaleur (9) est positionnée sur le substrat (7). Les électrodes (17, 19) sont positionnées sur le substrat (7) et sont reliées à la partie de génération de chaleur (9). La couche de protection (25) recouvre une partie des électrodes (17, 19) et la partie de génération de chaleur (9). L'asymétrie Rsk de la couche protectrice (25) est inférieure à 0.
(JA)
本開示のサーマルヘッドX1は、基板7と、発熱部9と、電極17,19と、保護層25と、を備える。発熱部9は、基板7上に位置する。電極17,19は、基板7上に位置し、発熱部9に繋がっている。保護層25は、発熱部9および電極17,19の一部を被覆する。保護層25のクルトシスRkuは3より小さい。また、本開示のサーマルヘッドX1は、基板7と、発熱部9と、電極17,19と、保護層25と、を備える。発熱部9は、基板7上に位置する。電極17,19は、基板7上に位置し、発熱部9に繋がっている。保護層25は、発熱部9および電極17,19の一部を被覆する。保護層25のスキューネスRskは、0より小さい。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報