処理中

しばらくお待ちください...

設定

設定

Goto Application

1. WO2020067129 - ウェハ用部材、ウェハ用システム及びウェハ用部材の製造方法

公開番号 WO/2020/067129
公開日 02.04.2020
国際出願番号 PCT/JP2019/037532
国際出願日 25.09.2019
IPC
H01L 21/683 2006.01
H電気
01基本的電気素子
L半導体装置,他に属さない電気的固体装置
21半導体装置または固体装置またはそれらの部品の製造または処理に特に適用される方法または装置
67製造または処理中の半導体または電気的固体装置の取扱いに特に適用される装置;半導体または電気的固体装置もしくは構成部品の製造または処理中のウエハの取扱いに特に適用される装置
683支持または把持のためのもの
H05B 3/28 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
202次元の平面の表面をもつ発熱素子,例.プレートヒータ
22非可撓性のもの
28絶縁物質に埋込まれた発熱導体
H05B 3/74 2006.01
H電気
05他に分類されない電気技術
B電気加熱;他に分類されない電気照明
3抵抗加熱
68特に料理板あるいは類似加熱板に適した加熱装置
74非金属板
CPC
H01L 21/683
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
H05B 3/28
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
20Heating elements having extended surface area substantially in a two-dimensional plane, e.g. plate-heater
22non-flexible
28heating conductor embedded in insulating material
H05B 3/74
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3Ohmic-resistance heating
68Heating arrangements specially adapted for cooking plates or analogous hot-plates
74Non-metallic plates ; , e.g. vitroceramic, ceramic or glassceramic hobs, also including power or control circuits
出願人
  • 京セラ株式会社 KYOCERA CORPORATION [JP]/[JP]
発明者
  • 川邊 保典 KAWANABE, Yasunori
  • 大川 善裕 OKAWA, Yoshihiro
代理人
  • 飯島 康弘 IIJIMA, YASUHIRO
優先権情報
2018-18396928.09.2018JP
公開言語 (言語コード) 日本語 (JA)
出願言語 (言語コード) 日本語 (JA)
指定国 (国コード)
発明の名称
(EN) WAFER MEMBER, WAFER SYSTEM, AND WAFER MEMBER PRODUCTION METHOD
(FR) ÉLÉMENT TRANCHE, SYSTÈME DE TRANCHE, ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN ÉLÉMENT TRANCHE
(JA) ウェハ用部材、ウェハ用システム及びウェハ用部材の製造方法
要約
(EN)
In the present invention, a heater has a plate-shaped part, at least one resistance heating element, a column-shaped part, and a plurality of relay conductors. The plate-shaped part has insulation properties, and has an upper surface on which a wafer is placed and a lower surface on the reverse side from the upper surface. The resistance heating element is embedded in the plate-shaped part. The column-shaped part has insulation properties, and protrudes downward from the lower surface of the plate-shaped part. The plurality of relay conductors each have an extension part that extends vertically inside the column-shaped part, and are electrically connected to the resistance heating element.
(FR)
Dans la présente invention, un dispositif de chauffage comporte une partie en forme de plaque, au moins un élément chauffant à résistance, une partie en forme de colonne, et une pluralité de conducteurs à relais. La partie en forme de plaque possède des propriétés d'isolation, et présente une surface supérieure sur laquelle une tranche est placée et une surface inférieure sur le côté opposé à la surface supérieure. L'élément chauffant à résistance est intégré dans la partie en forme de plaque. La partie en forme de colonne possède des propriétés d'isolation, et fait saillie vers le bas depuis la surface inférieure de la partie en forme de plaque. La pluralité de conducteurs à relais comportent chacun une partie d'extension qui s'étend verticalement dans la partie en forme de colonne, et sont électriquement connectés à l'élément chauffant à résistance.
(JA)
ヒータは、板状部と、1以上の抵抗発熱体と、柱状部と、複数の中継導体とを有している。板状部は、絶縁性であり、また、ウェハが重ねられる上面及びその反対側の下面を有している。抵抗発熱体は、板状部に埋設されている。柱状部は、絶縁性であり、板状部の下面から下方へ突出している。複数の中継導体は、柱状部内を上下に延びている延在部をそれぞれ有しているとともに抵抗発熱体に電気的に接続されている。
国際事務局に記録されている最新の書誌情報